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成聪

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：合肥工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：中央高校基本科研业务费专项资金安徽省自然科学基金安徽省高校省级自然科学研究项目更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇相变
  • 1篇相变温度
  • 1篇光电
  • 1篇VO
  • 1篇VO2
  • 1篇ZNO
  • 1篇W

机构

  • 1篇合肥工业大学

作者

  • 1篇周矗
  • 1篇李合琴
  • 1篇成聪
  • 1篇刘心同
  • 1篇叶楠

传媒

  • 1篇稀有金属与硬...

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
ZnO缓冲层对W掺杂VO_2薄膜光电性能的影响
2014年
用磁控溅射法在载玻片基底上分别制备W-VO2单层薄膜与ZnO/W-VO2双层薄膜,并在Ar气氛中进行退火。用X射线衍射仪、LCR测试仪、扫描电镜、紫外-可见分光光度计和红外光谱仪对薄膜样品的晶体结构、电阻-温度特性、表面形貌、可见光透过率和红外光透过率进行测试。结果表明:ZnO/W-VO2双层薄膜的相变温度降低至35℃,薄膜生长更加致密均匀,可见光透过率提高约23%,对红外光的屏蔽效果更优。
周矗李合琴刘心同徐昱昊叶楠钱满满成聪
关键词：相变温度
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