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金雷

作品数:7 被引量:7H指数:2
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 4篇理学
  • 3篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 2篇籽晶
  • 2篇晶体
  • 2篇PVT
  • 2篇ALN
  • 2篇衬底
  • 1篇单晶
  • 1篇导模法
  • 1篇断裂面
  • 1篇形核
  • 1篇摇摆曲线
  • 1篇英寸
  • 1篇应力
  • 1篇生长速率
  • 1篇碳化硅
  • 1篇透过率
  • 1篇驱动力
  • 1篇位错
  • 1篇位错密度
  • 1篇裂面
  • 1篇解理

机构

  • 7篇中国电子科技...

作者

  • 7篇金雷
  • 6篇史月增
  • 6篇张丽
  • 6篇齐海涛
  • 6篇程红娟
  • 3篇徐永宽
  • 1篇练小正
  • 1篇洪颖
  • 1篇李宝珠
  • 1篇徐世海
  • 1篇李强

传媒

  • 2篇人工晶体学报
  • 2篇微纳电子技术
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2020
  • 2篇2019
  • 3篇2018
  • 1篇2017
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
1英寸AlN晶体及性能测试
深紫外发光二极管、深紫外激光器、日盲紫外探测器等器件在紫外杀菌、光刻技术和国防领域等具有十分重要的应用[1,2]。作为最重要的紫外器件功能层,氮化铝镓外延层的衬底材料一般选取蓝宝石或硅,然而,蓝宝石或硅衬底与 AlGaN...
金雷程红娟史月增齐海涛张丽
关键词:衬底材料位错密度透过率
不同颜色AlN单晶缺陷研究被引量:3
2018年
通过物理气相传输(PVT)法在石墨系统中制备了绿色、无色和琥珀色氮化铝(Al N)单晶,在金属系统中制备了琥珀色Al N单晶。晶体中杂质含量测试结果表明石墨系统中琥珀色的Al N晶体比绿色和无色Al N晶体C、Si杂质含量低1~2个数量级,金属系统中琥珀色Al N晶体杂质含量最低,C、Si、O元素含量均在1018cm-3级别。Al N晶体的吸收图谱和光致发光图谱的分析结果表明,Al N晶体存在着位于4.7 e V、3.5 e V、2.8 e V、1.85 e V的4个吸收峰,其中4.7 e V和3.5 e V的吸收峰导致了Al N吸收截止边的红移,该吸收峰分别源于碳占氮位(CN)的点缺陷和VAl与O杂质的复合缺陷,2.80 e V的吸收峰导致了Al N晶体的琥珀色,该吸收峰是C元素和O元素共同导致的,1.85 e V的吸收峰导致了Al N晶体的绿色,该吸收峰是Si元素和C元素导致的。
徐永宽金雷程红娟史月增张丽齐海涛
β-Ga_2O_3体单晶X射线光电子能谱分析
2019年
通过对导模法制备的非故意掺杂、Si掺杂β-Ga_2O_3晶体和Si掺杂后退火处理的β-Ga_2O_3晶体进行了X射线光电子能谱分析(XPS),对比分析不同样品的Ga3d、Ga2p、O1s特征峰位和峰强度变化,并结合文献报道中β-Ga_2O_3薄膜及单晶材料的报道结果,进一步确认β-Ga_2O_3体单晶特征峰峰值。同时,通过对各峰强度的变化进行对比分析,对次峰产生的原因进行推测,获得Si掺杂及退火对晶体表面及晶体内部个特征峰的变化规律。
程红娟张胜男练小正金雷徐永宽
关键词:导模法
SiC籽晶上生长AlN单晶的杂质组成及处理被引量:2
2019年
采用物理气相传输法在SiC异质籽晶上制备了AlN单晶。通过Raman光谱仪、X射线衍射仪、二次离子质谱仪和X射线光电子能谱研究了AlN单晶的结晶质量和杂质成分,针对不同的杂质成分提出了相应的处理方式。结果表明:C、O为AlN单晶中的主要杂质元素,其中C元素为非故意掺杂,与AlN单晶的生长环境密切相关,随着生长晶体厚度的增加,C杂质元素的含量逐渐降低。而O元素除了源粉和生长系统中吸附氧外,还与抛光过程中形成的氧化物层有关;经腐蚀和退火处理,AlN表面氧化物的含量大幅降低,N/Al摩尔比接近1;经杂质处理后的AlN单晶片可作为同质生长的籽晶。
张丽齐海涛程红娟金雷史月增
衬底温度对PVT法生长AlN晶体自发形核的影响被引量:1
2017年
通过热力学理论对物理气相传输(PVT)法AlN晶体生长过饱和度进行分析,分别从软件模拟和晶体生长实验对衬底表面的温度分布进行调控,进而控制衬底表面AlN晶体生长的驱动力。理论上,采用Comsol模拟软件对坩埚结构的温度分布进行模拟仿真,模拟结果表明:复合型衬底可以显著改变衬底表面的温度分布,达到改变衬底表面AlN气氛的过饱和度的目的;实验上,采用PVT法AlN晶体的生长实验验证了软件模拟结果。采用复合型衬底生长AlN晶体时,通过对衬底表面的温度分布调控可有效控制晶体生长驱动力,进而实现形核位置和形核数量的控制。经过6~8 h AlN晶体生长后,可获得尺寸约为12 mm、厚度约为3 mm的AlN单晶。喇曼光谱和XRD双晶摇摆曲线测试结果表明晶体质量良好。
史月增金雷齐海涛张丽程红娟徐永宽
关键词:驱动力形核
PVT法同质籽晶AlN晶体生长
2020年
为了获得高质量AlN晶体,通过物理气相传输(PVT)法,采用AlN籽晶进行AlN晶体生长,并通过双温区加热装置对衬底与原料之间的温差进行调节。研究结果表明,籽晶形核阶段,随着AlN籽晶与原料顶温差的减小,AlN的形核机制呈现三种模式,分别为岛生长模式、畴生长模式和螺旋位错生长模式;晶体生长阶段,通过增加AlN籽晶与原料顶温差来提高晶体生长速率,采用10℃/h的变温速率将温差从10℃增加为30℃时,AlN晶体生长模式不变,仍然保持螺旋位错生长模式,该生长模式下获得的AlN晶体结晶质量最高,(0002)面摇摆曲线半峰宽(FWHM)约为55 arcsec。
李宝珠金雷史月增齐海涛张丽程红娟洪颖李强
关键词:生长速率摇摆曲线
SiC籽晶上生长AlN单晶的断裂特性研究被引量:1
2018年
通过扫描电镜(SEM)观察了SiC籽晶上生长AlN单晶的断裂面形貌。模拟了SiC籽晶与AlN晶体之间的应力分布。通过计算不同晶面的面间距,确定了六方晶系的AlN晶体中m面为解理面。拉曼光谱仪对不同晶面的特性进行了表征。结果表明,断裂面为m面,即裂纹扩展并沿m面解理形成断裂面。切割面为c面,AlN沿垂直于c方向生长。拉曼光谱中波数为656.2cm-1的(E2(high)声子模为AlN单晶中的特征拉曼峰)声子模式的半高宽为6.5cm-1,晶体质量高。残余的张应力是裂纹产生的主要原因。
张丽齐海涛徐世海金雷史月增
关键词:断裂面解理应力
共1页<1>
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