孙淑晶
- 作品数：1 被引量：1H指数：1
- 供职机构：北华大学物理学院更多>>
- 相关领域：一般工业技术更多>>
- 对靶磁控溅射FeCoN薄膜的结构与磁性被引量：1
- 2011年
- 利用改进后的对靶磁控溅射系统,以N2/Ar混合气体为溅射气体,在未加热的Si(111)衬底上沉积FeCoN薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)和超导量子干涉仪(SQUID)研究不同Co靶溅射功率对FeCoN薄膜样品的结构、形貌和磁性性能的影响.结果表明:固定Fe靶功率为160 W(电流I=0.4 A),当Co靶功率为2.4 W(I=0.04 A)时,薄膜由Co溶入ε-Fe3N中形成的ε-(Fe,Co)3N化合物相构成;当Co靶功率为58 W(I=0.2 A)时,获得了Fe3N/Co3N化合物相,薄膜的饱和磁化强度(Ms)为151.47 A.m2/kg,矫顽力(Hc)为3.68 kA/m;当Co靶功率为11.9 W(I=0.07 A)时,制备出具有高饱和磁化强度的α″-(Fe,Co)16 N2化合物相,薄膜的Ms=265.08 A.m2/kg,Hc=8.24 kA/m.
- 贾辉韩莉孙淑晶孙光东赵翠梅王欣
- 关键词：饱和磁化强度矫顽力
