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文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇等离子
  • 2篇等离子喷涂
  • 2篇氧化钇
  • 2篇氧化锆
  • 2篇涂层
  • 2篇喷涂
  • 2篇离子喷涂
  • 2篇刻蚀
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  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体刻蚀
  • 1篇氧化钇稳定氧...
  • 1篇在线监测
  • 1篇致密化
  • 1篇烧结温度
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷涂层
  • 1篇喷涂技术
  • 1篇气孔
  • 1篇稳定氧化锆

机构

  • 4篇北京科技大学
  • 3篇中国科学院微...

作者

  • 4篇王聪瑜
  • 2篇贾成厂
  • 2篇张有茶
  • 2篇纪箴
  • 2篇夏洋
  • 2篇程诚
  • 1篇张庆钊
  • 1篇王文东
  • 1篇王召利
  • 1篇刘金虎

传媒

  • 2篇粉末冶金技术
  • 1篇热喷涂技术

年份

  • 3篇2015
  • 1篇2014
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
YSZ耐刻蚀涂层制备技术的研究
随着热喷涂技术的发展,通过制备陶瓷涂层来提高等离子刻蚀机腔室的耐腐蚀性能已成为可能.本文主要论述了氧化钇稳定氧化锆(YSZ)陶瓷涂层及其主要制备技术大气等离子喷涂的工艺过程,介绍了粉末特性及不同喷涂工艺参数对涂层性能的影...
王聪瑜贾成厂夏洋张有茶程诚黄小泓
关键词:陶瓷涂层氧化锆氧化钇等离子喷涂技术耐腐蚀性能
氧化钇稳定氧化锆耐刻蚀涂层的研究现状被引量:5
2015年
随着热喷涂技术的发展,通过制备陶瓷涂层来提高等离子刻蚀机腔室的耐腐蚀性能已成为可能。本文主要论述了氧化钇稳定氧化锆(YSZ)陶瓷涂层及其主要制备技术大气等离子喷涂的工艺过程,介绍了粉末特性及不同喷涂工艺参数对涂层性能的影响作用,为实验研究奠定理论基础。
纪箴王聪瑜夏洋贾成厂张有茶程诚黄小泓
关键词:等离子喷涂
刻蚀腔室内衬用抗等离子体腐蚀涂层的研究现状被引量:2
2014年
干法刻蚀(等离子体刻蚀)技术产生的等离子体会对半导体制造工艺以及微电子IC制造工艺中的刻蚀腔室内衬产生腐蚀。本文综述了国内外腔室防等离子体腐蚀用材料的发展历程与现状,从耐等离子体刻蚀材料、悬浮液等离子喷涂技术和在线监测技术领域的发展展望了抗等离子体刻蚀涂层的未来发展趋势。
张有茶夏洋贾永昌张庆钊王文东刘金虎王聪瑜
关键词:等离子体刻蚀在线监测
MgO和烧结温度对Al_2O_3陶瓷致密化过程的影响被引量:8
2015年
以高纯α-Al_2O_3粉体为原料,MgO为烧结助剂,采用放电等离子烧结技术(SPS)制备氧化铝陶瓷。研究了MgO添加量和烧结温度对氧化铝陶瓷致密化过程及显微结构的影响,并分析了烧结过程中气孔的扩散与演变。结果表明:添加适量MgO可以降低氧化铝陶瓷的烧结温度,抑制晶粒长大,提高致密度,0.25%(质量分数)是MgO的最佳添加量;随着烧结温度的升高,晶粒逐渐长大,气孔率降低,1 550℃为最佳烧结温度;在此条件下获得的微米晶氧化铝陶瓷,其相对密度达到99.96%,平均晶粒尺寸约为3μm,且晶粒大小均匀,几乎无异常长大现象。
程诚纪箴贾成厂王召利黄小泓王聪瑜
关键词:MGO放电等离子烧结致密化气孔
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