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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇氮化硼
  • 1篇氧化硼
  • 1篇原位反应
  • 1篇陶瓷
  • 1篇

机构

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  • 1篇中国兵器工业...

作者

  • 1篇宋亮
  • 1篇温广武
  • 1篇侯圣英
  • 1篇王智慧
  • 1篇吴赟
  • 1篇纪伟

传媒

  • 1篇硅酸盐学报

年份

  • 1篇2012
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
温度对原位反应制备的Si-B-O-N陶瓷微观结构及力学性能的影响被引量:3
2012年
为满足新型透波陶瓷工程应用需要,利用硼酸脱水得到的氧化硼与氮化硅在1400~1800℃原位反应制备Si-B-O-N陶瓷。借助X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、Fourier变换红外光谱分析仪和扫描电子显微镜研究了热处理温度对Si-B-O-N陶瓷物相组成、结构及力学性能的影响。结果表明:氧化硼和氮化硅的原位反应在1600℃以上完成,所得产物为氮化硼和掺杂硼、氮元素的石英玻璃,其体积分数分别为30%和70%;原位反应结束后,随温度提高,氮化硼生长速率逐渐加快,晶粒尺寸由纳米级逐渐长大为亚微米级,非晶相中硼、氮元素含量逐渐降低;受氮化硼纳米晶强化作用以及非晶相结构影响,在1700℃获得的Si-B-O-N陶瓷力学性能较好。
吴赟王智慧侯圣英纪伟宋亮温广武
关键词:氮化硅氧化硼氮化硼原位反应
共1页<1>
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