林巧露
- 作品数：1 被引量：0H指数：0
- 供职机构：兰州大学核科学与技术学院更多>>
- 发文基金：中央高校基本科研业务费专项资金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 磁控溅射气体团簇源中团簇形成的DSMC研究
- 2011年
- 利用直接模拟蒙特卡洛方法(DSMC),模拟了磁控溅射气体团簇源中Cu^+(Cu^-)的含量比例不同的条件下,Cu团簇的尺寸分布.模拟结果表明:随着含量比例的增加,团簇的尺寸分布变窄了,不带电的团簇的比例增加,不带电的铜团簇分布的最大值减小,相应的带正电荷和带负电荷团簇的比例减小;相同的含量比例下,带正电的团簇的尺寸分布与带负电荷的团簇的尺寸分布基本相同;初始Cu^-比Cu^+的含量比例大时,输出的主要是带负电荷的团簇,带正电荷和不带电的团簇占很小的比例;Cu^-含量比例的增加,负Cu团簇的尺寸分布减小.
- 张连华潘小东李公平王晓冬柳学敏林巧露
- 关键词：DSMC方法
