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马爽

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：同济大学更多>>
相关领域：机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程

主题

  • 1篇抛光
  • 1篇YCOB
  • 1篇CMP
  • 1篇亚表面

机构

  • 1篇同济大学

作者

  • 1篇张志萌
  • 1篇马爽
  • 1篇朱杰

传媒

  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光被引量：1
2013年
通过选择合适的研磨剂、抛光垫以及抛光材料,采用机械抛光与CMP抛光相结合的方法对应用于高激光损伤阈值的薄膜基体材料YCOB晶体进行表面加工。通过优化研磨抛光工艺后得到超光滑晶体表面,样品表面在125μm×94μm的范围内粗糙度RMS值达到0.6 nm,同时具有非常低的亚表面损伤层,经过超声清洗和有机溶剂刻蚀后,在高倍显微镜下无明显划痕。
朱杰张志萌马爽
关键词：亚表面YCOB抛光CMP
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共1页<1>
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