周璐
- 作品数：4 被引量：7H指数：1
- 供职机构：武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程更多>>
- 不同沉积气压对MPCVD法制备的类金刚石膜性能的影响
- 2015年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法,以玻璃作为基底,通入CH4和H2,在改变沉积气压的条件下研究类金刚石(DLC)薄膜的生长情况。再利用紫外–可见–近红外分光光度计、激光Raman光谱仪和场发射扫描电子显微镜分别对制备出的DLC薄膜的光透过率、质量以及表面形貌进行表征与分析。结果表明:随着沉积气压的逐渐增大,可见光范围内的光透过率随之增大,类金刚石粒径逐渐减小,膜表面的团聚体尺寸逐渐减小、平整度提高。
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- 关键词：微波等离子体化学气相沉积类金刚石表面形貌
- 氮气体积浓度对高微波功率沉积金刚石膜的影响被引量：6
- 2015年
- 本研究在实验室自制的10kW圆柱形多模谐振腔式MPCVD装置中,研究了高功率沉积环境下,氮气在不同基片温度下对沉积的金刚石膜的影响。利用SEM表征对金刚石膜表面形貌的变化进行了分析,并结合Raman以及XRD的表征结果,分析了不同沉积温度下,氮气体积浓度与金刚石膜质量和晶粒尺寸间的关系。结果表明：引入氮气会同时起到提高沉积速率和增加二次形核的作用,并且金刚石膜的质量会随氮气体积浓度的增加而下降。随着基片温度的降低,N2对金刚石膜的影响将更多的表现为增加二次形核率。在基片温度为750℃时,通过研究不同氮气体积浓度下金刚石膜晶粒尺寸和结晶度的变化,得出当氮气体积浓度保持在0.03%-0.07%之间时,能获得晶粒尺寸为50nm左右且结晶度较好的纳米金刚石膜。
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- 关键词：高功率微波等离子体化学气相沉积金刚石膜
- 形核密度与氢等离子体处理对沉积CVD金刚石薄膜的影响被引量：1
- 2016年
- 本实验利用2kW微波等离子体化学气相沉积(CVD)设备,系统探究了不同形核密度和氢等离子体处理对CVD金刚石膜沉积的影响。利用扫描电镜、X射线衍射和Raman光谱对样品的形貌、结构和质量进行了表征,结果表明:形核密度越低,金刚石膜的晶粒尺寸越大,且随着时间的延长,较低形核密度和高形核密度下沉积的金刚石膜能分别获得<110>取向和<111>。当给予合适的生长环境,不同形核密度下沉积的金刚石膜均能获得较高的质量。因此,金刚石厚膜的沉积,可以考虑在低形核密度的环境下进行。另外,在相对较低的基片温度和腔体气压下进行氢等离子体处理,可以在保证金刚石膜表面CHx含量变化不大的情况下,充分减少金刚石膜表面或亚表面的非金刚石相,进一步地提高金刚石膜的质量。
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- 关键词：金刚石膜氢等离子体微波等离子体化学气相沉积
- MPCVD法玻璃上高光透率类金刚石膜的沉积
- 2016年
- 本实验使用石英钟罩微波等离子体化学气相沉积装置,采用"四步沉积法"在含有Ti原子层的玻璃表面,沉积类金刚石膜。保证其他参数不变,通过沉积温度的改变来研究温度对类金刚石膜表面形貌及光透过率的影响。结果表明,提高沉积温度可减少类金刚石膜表面的团聚,提高平整度,同时,提高沉积温度可提高光透过率,当温度为650℃,光透过率为94.8%。
- 孙祁翁俊刘繁周璐汪健华
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积类金刚石
