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于萍

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：天津化工研究设计院更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇氧化硅
  • 3篇二氧化硅
  • 2篇粉体
  • 2篇粉体材料
  • 1篇牙膏
  • 1篇溶胶
  • 1篇平均孔径
  • 1篇无机
  • 1篇无机酸
  • 1篇消光
  • 1篇消光剂
  • 1篇滤饼
  • 1篇摩擦剂
  • 1篇金属
  • 1篇金属盐
  • 1篇孔径
  • 1篇孔容
  • 1篇碱金属
  • 1篇碱金属盐
  • 1篇硅溶胶

机构

  • 3篇天津化工研究...

作者

  • 3篇于萍
  • 2篇宁延生
  • 2篇徐世增
  • 2篇朱春雨
  • 2篇马慧斌
  • 2篇王惠玲
  • 1篇宋波
  • 1篇闫岩

传媒

  • 1篇无机盐工业

年份

  • 1篇2007
  • 2篇2003
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
牙膏摩擦剂二氧化硅的研制
2007年
以硅酸钠和硫酸为原料，采用沉淀法工艺，控制釜底液碱浓度0．2～0．3moL／L、反应温度80-95℃、反应时间30-90min、反应pH8-10、熟化时间10-30min,助剂质量浓度15-30g/L，合成透明牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂。着重考察了釜底液碱浓度、助剂质量浓度等对二氧化硅性能的影响。此种二氧化硅摩擦剂的比表面积为30-54m^2／g,邻苯二甲酸二丁酯（DBP）吸收值为0．9-1．4mL／g，平均粒径为6～10μm，辐射牙釉质磨损（RDA）值低于150，pH为6-7，水分质量分数为3％-5％。此种二氧化硅引入到透明牙膏中，体系透光率为40％-85％。
闫岩宋波于萍
关键词：沉淀法二氧化硅牙膏摩擦剂
高结构低表面沉淀法二氧化硅及其制备方法
本发明属于粉体材料技术领域。高结构低表面沉淀法二氧化硅及其制备方法，其产品指标：结构指数SI＝100×DBP/BET为3.0－4.5；多点BET表面积为60－120米<Sup>2</Sup>/克；DBP吸油值为2.5－3...
马慧斌朱春雨宁延生徐世增于萍王惠玲阎岩
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消光剂用大孔容沉淀二氧化硅及其制备方法
消光剂用大孔容沉淀二氧化硅及其制备方法属于粉体材料制备技术领域。二氧化硅的特性：孔容0.4～1.8cm<Sup>3</Sup>/g，BET比表面积130～350m<Sup>2</Sup>/g，平均孔径180～300A，D...
王惠玲宁延生徐世增朱春雨于萍马慧斌阎岩
文献传递
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