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邓伟
作品数:
1
被引量:2
H指数:1
供职机构:
贵州师范学院物理与电子科学学院
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相关领域:
理学
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合作作者
王维
贵州师范学院物理与电子科学学院
黄建
贵州师范学院物理与电子科学学院
周筑文
贵州师范学院物理与电子科学学院
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邓伟
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贵州师范学院...
年份
1篇
2014
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模拟分析SiH_4和N_2O产生等离子体加强化学沉积制备SiO_2薄膜
被引量:2
2014年
通过等离子体粒子模拟实验(PIC),成功模拟了硅烷(SiH4)和笑气(N2O)的等离子体加强化学沉积(PECVD)制备SiO2薄膜的过程。模拟实验过程分析了电离后各种离子的动能、以及鞘层的空间和能量分布。分析这些物理参量,对比SiH4和N2O的等离子体加强化学沉积实验中的化学反应式,模拟实验结果从动能、能量空间分布的角度都能合理地解释等离子体加强化学沉积制备SiO2薄膜的实验过程,通过这些粒子模拟实验(PIC),从理论上合理地解释了使用SiH4和N2O形成SiO2薄膜的一些形成机制。
陈心园
黄建
邓伟
王维
周筑文
关键词:
笑气
SIO2薄膜
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