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严钦云

作品数:2 被引量:3H指数:1
供职机构:湖南工业大学理学院更多>>
发文基金:湖南省教育厅科研基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇电学性能
  • 2篇光学
  • 2篇光学性
  • 2篇光学性能
  • 2篇ZAO薄膜
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇膜厚
  • 1篇薄膜厚度
  • 1篇ZNO薄膜结...
  • 1篇AL掺杂
  • 1篇掺杂
  • 1篇ZNO薄膜

机构

  • 2篇湖南工业大学

作者

  • 2篇李雪勇
  • 2篇严钦云
  • 2篇崔丽玲

传媒

  • 1篇广州化工
  • 1篇湖南工业大学...

年份

  • 2篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
薄膜厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响被引量:1
2011年
采用直流磁控溅射技术,以氧化锌铝陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜样品。在其他参数不变的情况下,由不同溅射时间得到了不同厚度的薄膜,研究了薄膜的结构性质、电学和光学性质随薄膜厚度的变化关系。实验结果表明:在薄膜厚度为500 nm时,ZAO薄膜具有最优化的光电性能,电阻率为1.68×10-3Ω.cm,可见光区平均透射率为90.3%。
李雪勇严钦云崔丽玲
关键词:ZAO薄膜薄膜厚度电学性能光学性能
退火温度对Al掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响被引量:2
2011年
采用直流磁控溅射技术,在玻璃衬底上制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜样品。其他参数不变,在不同的温度下对样品进行了退火处理,研究了薄膜的结构性质、电学和光学性质随退火温度的变化关系。实验结果表明:在退火温度为200℃时,ZAO薄膜具有较优的光电性能,其电阻率为9.62×10-5.cm,可见光区平均透射率为89.2%。
李雪勇崔丽玲严钦云
关键词:ZAO薄膜退火温度电学性能光学性能
共1页<1>
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