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基于旋涂的纳米压印技术研究被引量：3: 2005年; 尝试使用一种新的工艺———旋涂法来达到图案复制的目的,介绍了旋涂法完成图案复制的实验过程,就印章及其复制品的尺寸作了对比,并分析了实验中观察到的缺陷。得出在精确控制实验条件的前提下,可以通过旋涂方法得到高品质微纳米级图案的结论。; 顾盼刘景全孙洪文陈迪; 关键词：纳米压印

环氧基紫外负性光刻胶的特性、应用工艺与展望被引量：7: 2004年; 环氧基紫外负性光刻胶(SU-8)是一种近几年发展起来的新型的光刻胶材料。它是一种双酚A酚醛缩水甘油醚环氧树脂溶解于GBL(γ-Butyrolactone)而形成的高分子有机聚合物胶体。SU-8胶作为一种光刻材料,由于其独特的光学性能,力学性能和化学性能等,在MEMS(Micro-electro-mechanic-sys-tem)研究领域正受到了越来越多的关注,目前已被广泛的应用于MEMS器件的制备中。本文介绍了它的结构性能以及发展前景并报道了我们在其加工工艺上的研究进展。; 朱军刘景全张金娅陈迪石磊; 关键词：光刻结构性能

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陈迪