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陈俊收

作品数:2 被引量:4H指数:1
供职机构:清华大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:自动化与计算机技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇射频MEMS...
  • 1篇损耗
  • 1篇偏压
  • 1篇频率偏移
  • 1篇桥式
  • 1篇开关
  • 1篇共面
  • 1篇共面波导
  • 1篇MEMS开关
  • 1篇MOS结构
  • 1篇波导
  • 1篇残余应力

机构

  • 2篇清华大学

作者

  • 2篇尤政
  • 2篇陈俊收
  • 1篇李滨
  • 1篇赵嘉昊
  • 1篇刘有军
  • 1篇胡穆之

传媒

  • 1篇清华大学学报...
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
桥式射频MEMS开关上电极薄膜的残余应力改进模型被引量:4
2011年
桥式射频(RF)微机电系统(MEMS)开关的上电极薄膜残余应力影响开关的响应时间、下拉电压等性能参数,降低了开关的可靠性.在分析传统拉伸线模型的基础上,提出了一种改进的残余应力静力学模型,将残余应力扩展到压应力的情况,并可应用于非对称均布载荷.选取了一组典型的开关参数,计算了双轴残余应力对两端固支MEMS薄膜均布载荷下拉挠度的影响.结果表明,在选取的参数条件下,拉应力增大到1 MPa时,薄膜的最大挠度减少7.95%,压应力增大到-1 MPa时,薄膜的最大挠度增加9.47%,与传统模型的计算结果相比,改进模型消除了非线性叠加产生的约0.3%的误差.采用迭代方法计算下拉电压,对两组实验测试数据与模型计算结果进行了验证,模型计算结果与实验数据基本相符.
陈俊收尤政李滨
关键词:MEMS开关残余应力
高阻硅衬底MOS结构共面波导的偏压特性
2012年
提出一种新型高阻硅(电阻率ρ>8kΩ.cm)衬底MOS(metal-oxide-semiconductor)结构的凸起式共面波导。给出了其在50MHz~40GHz频段的插入损耗和回波损耗测试结果,以及在-40V~+40V直流偏压下散射参数的变化。结果表明,随着偏压的变化,回波损耗在Ka波段极值点的频率和幅值均会产生偏移,插入损耗极值点的频率基本没有偏移,只存在幅值偏移。共面波导的损耗偏移与MOS结构的Si-SiO2界面效应有关,在凸起式共面波导损耗的偏压实验中,观察到与传统MOS结构共面波导相反的曲线,并尝试给出了理论解释。该文设计的共面波导在35GHz下实现了小于-0.010dB/mm的损耗,优于Ka频段硅衬底共面波导已报道的结果。
陈俊收胡穆之赵嘉昊刘有军尤政
关键词:共面波导MOS结构偏压损耗频率偏移
共1页<1>
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