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刘宇峰

作品数：1 被引量：9H指数：1
供职机构：武汉大学物理科学与技术学院电子显微镜中心更多>>
发文基金：中央高校基本科研业务费专项资金中国博士后科学基金湖北省自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电子显微学
  • 1篇群论

机构

  • 1篇华中科技大学
  • 1篇武汉大学
  • 1篇中南大学

作者

  • 1篇王建波
  • 1篇贾双凤
  • 1篇郑赫
  • 1篇刘曦
  • 1篇曹凡
  • 1篇刘宇峰

传媒

  • 1篇电子显微学报

年份

  • 1篇2017
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
CuO纳米线中的取向畴被引量：9
2017年
通过简单的热氧化法,可以得到不同取向畴的CuO纳米线结构。利用群论的知识,从理论上推导出CuO纳米线中存在11种畴壁结构,其中5种已经被实验证实。同时,在800℃下得到直径较大的CuO纳米线,利用透射电子显微学相关技术分析发现,这种纳米线中存在一种新的畴壁结构,而且也属于理论上得到的11种畴壁之一。本文利用群论分析,解释了CuO纳米线中取向畴结构的生成机制,对调控CuO纳米材料的生长具有指导作用。
曹凡贾双凤刘曦刘宇峰郑赫王建波
关键词：群论电子显微学
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共1页<1>
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