杨伟
- 作品数：25 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信理学化学工程更多>>
- 一种强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法
- 本发明公开了一种强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法，属于光学材料技术领域。其包括以下步骤：将经提纯后的甲基三乙氧基硅烷与去离子水混合，在加热下搅拌反应并蒸出液体，对蒸出的液体实时监测其粘度，当粘度达到预期设定值后，将...
- 王天宇邓雪然雷向阳杨伟惠浩浩张清华马红菊张帅张利平张剑锋
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- 一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜及其制备方法
- 本发明公开了一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜及其制备方法。其制备方法为：(1)将甲基三甲氧基硅烷、水和乙醇混合，于100～150℃反应15～24h，得溶胶A；(2)将硅氧烷、氨水和乙醇混合，于80～120℃反应20...
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- 一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法
- 本发明公开了一种高机械强度强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法，属于光学材料技术领域。其包括以下步骤：将甲基三乙氧基硅烷、原硅酸乙酯、去离子水和有机溶剂混合，在加热下搅拌反应，制得低聚物溶胶；将低聚物溶胶与有机溶剂混合...
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- 一种折射率可调的紫外固化薄膜及其制备方法
- 本发明提供了一种折射率可调的紫外固化薄膜及其制备方法，制备方法包括：将原硅酸乙酯、去离子水和有机溶剂混合，在8‑12℃反应12‑24h制得低聚物，接着在45‑55℃陈化48‑72h，通过低聚物自组装团簇制得SiO<Sub...
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- 一种抗污染真空减反膜及其制备方法
- 本发明公开了一种抗污染真空减反膜及其制备方法，属于光学材料技术领域。本发明通过在溶胶合成完成后加入改性剂2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7‑全氟‑1,8‑辛二醇，对生成的二氧化硅表面进行氟化改性，改性剂为全氟...
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- 一种强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法
- 本发明公开了一种强激光装置倍频元件匹配薄膜及其制备方法，属于光学材料技术领域。其包括以下步骤：将经提纯后的甲基三乙氧基硅烷与去离子水混合，在加热下搅拌反应并蒸出液体，对蒸出的液体实时监测其粘度，当粘度达到预期设定值后，将...
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- KDP晶体的清洗方法
- 本发明提供了一种KDP晶体的清洗方法，包括以下步骤：惰性气体保护下，将KDP晶体浸入清洗液中静置1.5‑2.5h，然后依次采用频率为35‑45kHz、90‑110kHz和170‑190kHz的超声波对其进行清洗，清洗时间...
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- KDP晶体的清洗方法
- 本发明提供了一种KDP晶体的清洗方法，包括以下步骤：惰性气体保护下，将KDP晶体浸入清洗液中静置1.5‑2.5h，然后依次采用频率为35‑45kHz、90‑110kHz和170‑190kHz的超声波对其进行清洗，清洗时间...
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- 提拉涂膜夹具、提拉涂膜设备及提拉涂膜方法
- 本申请提供了提拉涂膜夹具、提拉涂膜设备及提拉涂膜方法，涉及化学膜制备技术领域。一种提拉涂膜夹具，包括主体、密封圈和两个压杆。主体具有凹槽和围设于凹槽四周的平台，平台用于放置待涂膜元件。密封圈围设于凹槽的四周且与平台密封连...
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- 晶体涂膜元件及其制备方法、晶体膜系
- 本申请涉及激光材料领域，具体而言，涉及一种晶体涂膜元件及其制备方法、晶体膜系。晶体涂膜元件包括：晶体基底；覆盖于所述晶体基底的匹配膜，所述匹配膜的材料为聚甲基硅氧烷与SiO<Sub>2</Sub>的混合物；以及覆盖于所述...
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