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朱旭倩

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：上海应用技术学院化学与环境工程学院更多>>
发文基金：上海市教育委员会重点学科基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电沉积
  • 1篇镀层
  • 1篇能谱
  • 1篇光谱
  • 1篇光谱性
  • 1篇光谱性能
  • 1篇铬
  • 1篇镧

机构

  • 1篇赣南师范大学
  • 1篇上海应用技术...
  • 1篇上海海洋大学

作者

  • 1篇王刚
  • 1篇李昕
  • 1篇宋玲玲
  • 1篇刘小珍
  • 1篇朱旭倩

传媒

  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
铬-镧镀层的制备及其光谱性能被引量：2
2011年
用电沉积法分别采用直流电源和脉冲电源制备铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)。分别用发射光谱法、X衍射法、能谱法和扫描电镜法等对镀层进行表征。铬-镧镀层(dc)为非晶态镀层,铬-镧镀层(pulse)中含有晶态的镧和碳化铬。铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)的硬度分别为860.3和930.2 HV,比铬镀层的硬度(774.0 HV)分别提高了11.15%和20.18%;铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)的磨损质量是铬镀层的磨损质量的1/1.29和1/2.25。铬镀层、铬-镧镀层(dc)和铬-镧镀层(pulse)的磨擦系数分别为0.884,0.640和0.648。采用脉冲电源,可提高镀层的耐磨性和硬度,铬-镧镀层(pulse)的磨损质量是铬-镧镀层(dc)的磨损质量的1/1.75,铬-镧镀层(pulse)的硬度比铬-镧镀层(dc)的硬度提高了8.13%。
刘小珍王刚宋玲玲李昕朱旭倩
关键词：电沉积镀层能谱
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