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韩然

作品数：28 被引量：0H指数：0
供职机构：北京师范大学更多>>
相关领域：金属学及工艺文化科学一般工业技术医药卫生更多>>

合作作者

文献类型

  • 28篇中文专利

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇文化科学
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇建筑科学
  • 1篇医药卫生

主题

  • 5篇涂层
  • 5篇金刚石
  • 5篇金刚石涂层
  • 5篇类金刚石
  • 5篇类金刚石涂层
  • 5篇刚石
  • 4篇低能离子
  • 4篇低能离子束
  • 4篇电极
  • 4篇液氩
  • 4篇预抽
  • 4篇制冷
  • 4篇制冷效果
  • 4篇探测器
  • 4篇脉冲
  • 4篇缓冲室
  • 4篇活塞
  • 4篇分子泵
  • 4篇高功率脉冲
  • 4篇抽气

机构

  • 28篇北京师范大学

作者

  • 28篇吴先映
  • 28篇廖斌
  • 28篇张旭
  • 28篇韩然
  • 26篇罗军
  • 24篇欧阳晓平
  • 13篇陈琳
  • 8篇张丰收
  • 7篇英敏菊
  • 4篇刘建武
  • 4篇杨晓峰
  • 2篇王宇东

年份

  • 3篇2023
  • 1篇2022
  • 3篇2021
  • 9篇2020
  • 3篇2019
  • 6篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2016
共 28 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种提高掺杂类金刚石膜层质量的方法
本发明涉及一种提高掺杂类金刚石膜层质量的方法，在工件上等离子体化学气相沉积掺杂类金刚膜层之前，在所述工件周围设置屏蔽装置，所述屏蔽装置具有开口，且所述开口正对等离子体出口；在等离子体化学气相沉积掺杂类金刚膜层过中，所述屏...
廖斌欧阳晓平张旭吴先映韩然张丰收
一种替代激光直接成型技术的天线制备方法
本发明公开了一种替代激光直接成型技术的天线制备方法，基体样品通过传输带进入准备室，准备室内有吹干系统保证样品的干净和干燥；基体样品干燥后通过传送带进入预抽室；抽气完成后通过传送带进入缓冲室，缓冲室通过分子泵进行高真空抽气...
廖斌欧阳晓平罗军张旭吴先映庞盼陈琳韩然
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一种生物针灸表面处理技术及设备
本发明公开了一种生物针灸表面处理技术及设备，包括针柄、针身和针尖，针身基于离子束技术制备了超薄、超高绝缘以及超硬的类金刚石涂层,类金刚石涂层的厚度为1‑6nm，在针身的类金刚石膜层上沉积三条宽2‑5μm测试通道线；针柄连...
廖斌欧阳晓平罗军张旭张丰收吴先映左帅庞盼陈琳韩然
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一种替代激光直接成形技术的装置
本发明公开了一种替代激光直接成形技术的装置，基体样品通过传输带进入准备室，准备室内有吹干系统保证样品的干净和干燥；基体样品干燥后通过传送带进入预抽室；抽气完成后通过传送带进入缓冲室，缓冲室通过分子泵进行高真空抽气；最后进...
廖斌欧阳晓平罗军张旭吴先映庞盼陈琳韩然
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一种防潮高透明度的类金刚石涂层的制备方法
本发明公开了在核探测晶体表面的一种防潮高透明度的类金刚石(DLC)涂层的制备方法，包括以下步骤：1S：利用重金属和气体混合等离子体对基体表面进行高低能交替清洗；2S：以碳靶为阴极，利用双T异面型磁过滤沉积方法在基体上进行...
廖斌欧阳潇欧阳晓平左帅罗军张旭吴先映韩然
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一种高遮挡件抗腐蚀多元涂层及其制备方法以及制备方法所用的装置
本发明提供了一种高遮挡件抗腐蚀多元涂层及其制备方法以及制备方法所用的装置，属于薄膜沉积技术领域。本发明提供的高遮挡件抗腐蚀多元涂层的制备方法，包括以下步骤：以碳硅靶和碳硅钛靶为阴极，利用磁过滤沉积法、多弧沉积法和第一高功...
廖斌欧阳晓平何光宇何卫锋罗军陈琳张旭吴先映庞盼韩然英敏菊
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一种离心泵叶轮表面处理方法和设备
本发明公开了一种离心泵叶轮表面处理方法和设备，包括以下步骤：S1：利用前期处理设备对叶轮表面进行脱油脱脂清洗；S2：利用宽束双加速级金属离子源对叶轮基体进行表面结构异化处理；宽束金属离子源能够引出的束斑直径为800mm，...
廖斌欧阳晓平张旭吴先映左帅韩然刘建武杨晓峰罗军庞盼
一种生物针灸表面处理技术及设备
本发明公开了一种生物针灸表面处理技术及设备，包括针柄、针身和针尖，针身基于离子束技术制备了超薄、超高绝缘以及超硬的类金刚石涂层,类金刚石涂层的厚度为1‑6nm，在针身的类金刚石膜层上沉积三条宽2‑5μm测试通道线；针柄连...
廖斌欧阳晓平罗军张旭张丰收吴先映左帅庞盼陈琳韩然
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一种提高掺杂类金刚石膜层质量的方法
本发明涉及一种提高掺杂类金刚膜层质量的方法，在工件上等离子体化学气相沉积掺杂类金刚膜层之前，在所述工件周围设置屏蔽装置，所述屏蔽装置具有开口，且所述开口正对等离子体出口；在等离子体化学气相沉积掺杂类金刚膜层过中，所述屏蔽...
廖斌欧阳晓平张旭吴先映韩然张丰收
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一种在活塞环表面快速沉积DLC膜层的设备及方法
本发明公开了一种在活塞环表面快速沉积DLC膜层的设备及方法，该设备包括：离子注入系统，用于纵向均匀注入离子流；真空室，其一端与离子注入系统密封连接，另一端密封连接有宽束磁过滤沉积系统的一端，宽束磁过滤沉积系统的另一端设置...
廖斌欧阳晓平罗军张旭吴先映韩然王宇东
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