潘婧
- 作品数：4 被引量：12H指数：2
- 供职机构：西南大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：重庆市科技攻关计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学金属学及工艺化学工程更多>>
- 电弧离子镀CrSiN薄膜的内应力控制与厚膜化被引量：1
- 2010年
- 采用电弧离子镀技术在不锈钢SUS440C基片上沉积了CrSiN薄膜,并在此基础上通过引入Cr应力缓和层制备了CrSiN/Cr多层薄膜,研究了Cr应力缓和层对缓解CrSiN薄膜内部应力、增强膜基结合力、提高薄膜沉积厚度的作用。利用X射线衍射仪及sin2ψ法测试计算了薄膜的内部应力、采用扫描电镜及透射电镜观察了薄膜的显微结构,采用微米划痕仪测试了膜基结合强度。结果表明:20～30 nm极薄Cr层的导入,缓解了CrSiN薄膜内部应力的积累,降低了薄膜整体的内部应力,选择合适的Cr层数,最大可降低内部应力1/2。CrSiN/Cr多层膜仍保持了原有的连续柱状晶生长模式,CrSiN层与Cr层间,界面完整清晰,Si-N非晶部分缓解了CrSiN中CrN晶格与Cr层中Cr晶格间的失配,使得层间结合紧密牢固。划痕仪测试结果表明膜基结合强度与薄膜内部应力呈现出高度的相关性,Cr应力缓和层的导入改善了薄膜的膜基结合力、提高了薄膜可沉积厚度。
- 聂朝胤安藤彰朗潘婧贾晓芳
- 关键词：电弧离子镀内部应力
- 类金刚石膜(DLC)的应用探究被引量：6
- 2011年
- 通类金刚石膜是一类性质类似于金刚石的具有多项优质性能的新型膜材料,它的面世是人类膜材料科学的一大进步。由于类金刚石膜的高耐磨性、低摩擦系数、热稳定性、红外透光性、高电阻、低介电常数及生物相容性,适合于多个领域的应用,同时类金刚石膜的制备方法简单,使其引起人们的广泛关注。本文在概述了类金刚石膜的发现、结构和制备方法后,着重描述了多层类金刚石膜在机械、光学、医疗、电子、航天等领域的应用,最后指出它的研究现状和发展前景。
- 潘婧
- 关键词：DLC
- 阳极线性离子源辅助磁控溅射沉积氮化钛薄膜的研究被引量：5
- 2010年
- 采用阳极线性离子源辅助磁控溅射技术,通过改变氮气流量以及离子源功率,在低温(150℃)条件下以不锈钢为基体制备了氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、显微硬度计、球盘式摩擦磨损仪、压痕法研究了薄膜的结构、硬度、耐磨性和结合强度,结果表明,采用阳极线性离子源辅助磁控溅射法在150℃低温条件下能制备出具有良好特性的金黄色的氮化钛薄膜。当氮气流量为20sccm、离子源功率为300W时,制备的薄膜硬度达到2039HV,且薄膜的耐磨性与结合强度最佳。离子的轰击作用使薄膜的力学性能得到了较大改善。
- 卢春灿聂朝胤潘婧贾晓芳谢红梅杨娟
- 关键词：磁控溅射氮化钛
