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曹帅

作品数:1 被引量:16H指数:1
供职机构:浙江工业大学化学工程与材料学院更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电化学
  • 1篇电化学性能
  • 1篇循环伏安
  • 1篇循环伏安法
  • 1篇硼掺杂
  • 1篇阻抗
  • 1篇交流阻抗
  • 1篇交流阻抗法
  • 1篇伏安法
  • 1篇掺硼
  • 1篇掺杂

机构

  • 1篇浙江工业大学

作者

  • 1篇郑国渠
  • 1篇曹华珍
  • 1篇胡晓君
  • 1篇曹帅

传媒

  • 1篇高校化学工程...

年份

  • 1篇2006
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
掺硼浓度对金刚石薄膜电极电化学性能影响的研究被引量:16
2006年
以不同掺硼浓度的金刚石薄膜作为电极材料,采用循环伏安法和交流阻抗法研究了电极的电化学性能,着重分析了掺硼浓度对金刚石电极电化学性能的影响。结果表明,随着掺硼浓度的增加,电极的电势窗口略微变小,背景电流也随之变大。在铁氰化钾电解液中,未掺杂金刚石薄膜的电极表面进行的不是可逆反应,而硼掺杂金刚石膜电极表面在反应过程中有着良好的活性和准可逆性;并且随着掺硼浓度的增加,其动力学过程主要受扩散过程控制。金刚石膜电极对苯酚模拟有机污染物的循环伏安实验表明,所考察的三个硼浓度不断增加的电极的氧化峰电流密度分别为0.8,1.9和5.1mA?cm?2,说明在本实验范围内,金刚石膜电极对苯酚催化氧化作用随着掺硼浓度的增加而增强。
胡晓君曹华珍郑国渠曹帅
关键词:硼掺杂循环伏安法交流阻抗法
共1页<1>
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