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  • 19篇光栅
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  • 4篇高稳定性
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  • 2篇调节装置
  • 2篇调整方法
  • 2篇镀膜工艺

机构

  • 21篇中国科学院长...
  • 1篇长春理工大学

作者

  • 21篇周敬萱
  • 20篇糜小涛
  • 15篇齐向东
  • 15篇张善文
  • 10篇于宏柱
  • 9篇于海利
  • 5篇高键翔
  • 2篇李文昊
  • 1篇张方程
  • 1篇付新华

传媒

  • 1篇长春理工大学...
  • 1篇长春工业大学...

年份

  • 1篇2024
  • 2篇2023
  • 3篇2022
  • 6篇2021
  • 4篇2020
  • 4篇2019
  • 1篇2013
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种调整光栅刻刀方位角的方法
本申请公开了一种调整光栅刻刀方位角的方法,包括:利用光栅刻刀在基底上划刻刻线;利用形貌扫描仪对刻线进行扫描,得到刻线的截面图;根据截面图计算与刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积;根据第一...
糜小涛张善文齐向东林雨江思博周敬萱于宏柱于海利
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一种光栅拼接装置
本发明公开了一种光栅拼接装置,包括基体和待拼接的至少两个光栅,所述基体和所述光栅之间设有用以将所述光栅固定于所述基体的若干第一固紧机构,所述基体和所述光栅之间还设有可研磨的调整机构。上述光栅拼接装置通过研磨来减小拼接误差...
糜小涛张善文齐向东林雨江思博周敬萱杨国军
一种调整光栅刻刀方位角的方法
本申请公开了一种调整光栅刻刀方位角的方法,包括:利用光栅刻刀在基底上划刻刻线;利用形貌扫描仪对刻线进行扫描,得到刻线的截面图;根据截面图计算与刻线的凹陷处相邻的第一隆起处的第一隆起面积、第二隆起处的第二隆起面积;根据第一...
糜小涛张善文齐向东林雨江思博周敬萱于宏柱于海利
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一种光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法
本发明提供了一种光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法,属于衍射光栅的制备技术领域,本发明的校正方法首先测量出待刻光栅毛坯的面型误差,然后求得光栅毛坯面型所引起的刻线误差矩阵,并将之写入光栅刻划程序中,最后在光栅刻划...
糜小涛张善文齐向东江思博林雨周敬萱
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一种中阶梯光栅拼接方法和系统
本发明提供了一种中阶梯光栅拼接方法和系统,该系统采用了剪切干涉技术,当一束光照射到剪切板上,会在其前后两个面各产生一次反射,两束反射光之间会产生一个横向剪切量,重叠部分会产生干涉条纹。如果入射光由两束相邻且近似平行的光束...
糜小涛李文昊于宏柱李逸凡江思博周敬萱高键翔
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一种光栅膜层的制备方法
本申请公开了一种光栅膜层的制备方法,包括:预先获取镀膜机的镀膜均匀性轮廓图,镀膜均匀性轮廓图为在理论镀膜厚度下,镀膜机镀膜区域内各位置与各位置对应的实际镀膜厚度之间的关系图;根据镀膜均匀性轮廓图对光栅基底的第一表面进行加...
糜小涛张善文齐向东周敬萱江思博于宏柱于海利
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一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法
本发明涉及光栅刻划领域,具体涉及一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法,刻划深度调节装置包括第一安装架、微调组件、第二安装架以及调距组件,刀架系统包括刀架底座、刀架、刻划刀以及刻划深度调节装置,通过设置第一磁铁以及第二...
糜小涛遆云赞江思博周敬萱高键翔
一种光栅刻刀方位角的调整方法
本申请公开了一种光栅刻刀方位角的调整方法,包括:利用预先根据光栅刻刀方位角要求调整过方位角的光栅刻刀在基底上刻划第一刻线,并利用光栅刻刀进行压刃,得到光栅刻刀刃型;获取光栅刻刀刃型的刃尖与第一刻线之间的第一距离、光栅刻刀...
糜小涛张善文齐向东林雨周敬萱江思博于海利于宏柱
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光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统
本发明公开了一种光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统。所述光栅拼接校正装置,应用于光栅拼接校正系统。所述校正方法包括:调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者,使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射...
糜小涛杨国军齐向东张善文于海利于宏柱丛敏江思博周敬萱
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一种光栅拼接装置
本发明公开了一种光栅拼接装置,包括基体和待拼接的至少两个光栅,所述基体和所述光栅之间设有用以将所述光栅固定于所述基体的若干第一固紧机构,所述基体和所述光栅之间还设有可研磨的调整机构。上述光栅拼接装置通过研磨来减小拼接误差...
糜小涛张善文齐向东林雨江思博周敬萱杨国军
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