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董国平

作品数:2 被引量:7H指数:2
供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文基金:上海市青年科技启明星计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇电子束蒸发
  • 1篇双折射
  • 1篇相位延迟
  • 1篇各向异性
  • 1篇TIO

机构

  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 2篇范正修
  • 2篇邵建达
  • 2篇肖秀娣
  • 2篇董国平
  • 1篇贺洪波
  • 1篇邓淞文
  • 1篇余华

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇中国激光

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
倾斜沉积制备雕塑薄膜的研究进展被引量:2
2008年
倾斜沉积是一种新型的薄膜沉积技术。通过制备过程中基片的旋转和倾斜,可以制备出斜柱状、之字形、螺旋状、S形以及C形等各种形状的雕塑薄膜。雕塑薄膜可以实现许多传统薄膜无法实现的光学性质,为光学薄膜的设计与制备开辟了新的途径。本文综述了雕塑薄膜的制备方法,分析了雕塑薄膜的结构特征及影响因素,并阐述了其在光学领域的广泛应用前景。
肖秀娣董国平余华范正修贺洪波邵建达
关键词:各向异性
热处理对电子束蒸发TiO_2雕塑薄膜双折射性能的影响被引量:5
2009年
使用倾角电子束蒸发技术制备了TiO_2雕塑薄膜,通过对雕塑薄膜在不同退火温度和退火时间下进行热处理,发现热处理工艺可以优化薄膜的双折射特性和相位延迟性能。实验结果表明,TiO_2雕塑薄膜的最佳退火条件为500℃下处理4 h,其双折射值达0.115左右,远高于未处理时的最大双折射值(0.06)。椭偏仪测试结果表明,最优条件下热处理后的薄膜,在550 nm处相位延迟量达90°,可以作为该波长处的λ/4波片使用。因此,热退火是改善雕塑薄膜双折射性能的一种简单实用的方法。
肖秀娣董国平邓淞文邵建达范正修
关键词:双折射相位延迟
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