吕琳
- 作品数：9 被引量：16H指数：3
- 供职机构：武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程一般工业技术电子电信更多>>
- 氢气浓度对掺氮超纳米金刚石薄膜的影响被引量：2
- 2015年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法,以甲烷和氮气为气源,通过改变反应气体中氢气的浓度,在硅衬底上沉积出掺杂氮的超纳米金刚石膜。并利用扫描电子显微镜,拉曼光谱仪,X射线衍射仪,霍尔效应测试仪分别对掺杂氮的超纳米金刚石膜的表面形貌,组成结构及导电性能进行了进行表征,重点研究了氢气浓度对薄膜特性的影响。结果表明:随着氢气浓度的增加,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大;薄膜的质量提高,且由G峰漂移引起的压应力逐渐减小;薄膜导电性变差。
- 吕琳汪建华翁俊张莹崔晓慧
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积导电性
- 高浓度氩气对金刚石膜的质量、晶粒尺寸和硬度的影响被引量：4
- 2015年
- 为研究Ar浓度对金刚石膜的质量的影响,采用微波等离子体化学气相沉积法,以Ar/H2/CH4为气源,通过改变反应气源中的Ar流量,在P型Si(100)基片上分别沉积了不同晶粒尺寸的金刚石膜(微米、纳米以及超纳米)。采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪、往复式摩擦磨损试验机等设备对金刚石薄膜的表面形貌、晶粒尺寸、薄膜质量、残余应力以及微观硬度等特性进行了分析。结果表明:随着Ar流量的增加,金刚石膜晶粒尺寸减小;由G峰漂移引起的拉应力先减小后增大;薄膜中非金刚石含量增加,硬度下降。
- 王小安汪建华吕琳翁俊
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积氩气
- 不同高浓度气体对金刚石薄膜制备的影响
- 2014年
- 采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,分别制备了CH4/H2体系、CH4/H2/N2体系以及CH4/H2/Ar体系金刚石薄膜。主要采用了扫描电子显微镜(SEM)、激光拉曼光谱(Raman)和X射线衍射光谱(XRD)等方法对不同体系中制备的金刚石薄膜的晶粒尺寸及其品质进行了分析,研究了不同高浓度气体对金刚石薄膜的影响。结果显示:利用高浓度的甲烷可以在很大程度上细化晶粒,制备出纳米晶金刚石薄膜,但是薄膜的非晶相较多,品质下降;加入70%N2,薄膜中的金刚石晶粒生长速度较慢,但可制备出均匀的纳米晶金刚石薄膜;70%的Ar气氛中,金刚石晶粒生长较快,制得的薄膜中的金刚石晶粒是微米级别的。
- 张莹汪建华熊礼威吕琳
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜氮气氩气
- 氧气流量对MPCVD制备微/纳米双层金刚石膜的影响被引量：2
- 2014年
- 应用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）技术,以CH4/H2/Ar为主要气源,成功制备出了微/纳米双层金刚石膜。同时,在纳米膜层生长过程中,通过添加O2辅助气体,研究了不同O2流量对微/纳米金刚石膜生长的影响。结果表明,当O2流量在0-0.8 sccm范围时,所获得的金刚石膜仍为微/纳米两层膜结构;当氧气流量增加到1.2 sccm时,金刚石膜只有一层微米膜结构;而O2流量在0-1.2 sccm范围时,纳米层晶粒尺寸及品质与氧气流量成正比例关系。表明适量引入O2可以促进纳米层晶粒长大和提高膜品质。另外,当O2流量为0.8 sccm,所制备的微/纳米金刚石膜不仅品质好,而且生长率也较高。
- 刘聪汪建华吕琳翁俊
- 关键词：MPCVD金刚石膜
- MPCVD法制备低粒径纳米金刚石薄膜的研究被引量：5
- 2015年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法,以Ar/H2/CH4为气源,通过改变气源流量比例和功率,探究生长低粒径纳米金刚石的最佳条件。利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜分别对制备出的薄膜的晶粒尺寸和表面形貌进行了表征,并采用拉曼散射光谱仪对薄膜的质量及残余应力进行了分析。结果表明:氩氢浓度比例相对于功率和甲烷浓度等因素对金刚石粒径影响较大;随着氩氢浓度比例增大,金刚石粒径呈减小趋势;金刚石相对于石墨相的含量先减小后增大,且由拉曼G峰引起的拉应力不断增大;膜表面的团聚体尺寸逐渐减小,平整度随之提升。
- 吕琳汪建华张莹
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积纳米金刚石粒径
- 不同氢浓度对超纳米金刚石膜结构及耐磨性影响的研究被引量：2
- 2014年
- 采用微波等离子体化学气相沉积技术(MPCVD),通过在甲烷和氩气的混合反应气源中加入不同浓度的氢气,合成了超纳米金刚石薄膜(UNCD)。利用扫描电镜,拉曼光谱及X射线衍射对薄膜表面形貌,结构进行表征,结果显示,随着氢气浓度的减少,所得到的超纳米金刚石膜的晶粒尺寸减小,金刚石相含量降低,金刚石膜逐步趋向于(111)面生长,并且还观察到以往在制备金刚石膜时从未出现的1 190 cm-1处拉曼峰。利用往复式摩擦磨损试验机对薄膜的耐磨性能进行测试,研究表明,超纳米金刚石硬度和弹性模量随氢气浓度减小而减小,薄膜的磨损率增大,但摩擦系数变化相对不明显。
- 吕琳汪建华翁俊熊礼威张莹
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积耐磨性
- 低浓度氮气对MPCVD法制备金刚石膜的影响被引量：1
- 2014年
- 利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,在CH4/H2的混合反应气源中加入N2进行了金刚石膜的沉积实验,详细研究了N2浓度对金刚石膜生长的影响规律。使用扫描电子显微镜、激光拉曼光谱仪和X射线衍射仪等设备,表征了金刚石薄膜的表面形貌、相组成及晶面取向。实验结果表明:随着N2体积分数的增加(由0%增加到6%),薄膜中的非金刚石相含量逐渐增大,金刚石晶粒尺寸逐渐减小,晶面取向也由较大的晶面(111)转变成较小的晶面(100);当N2体积分数为4%时,沉积的金刚石膜表面为"菜花"状结构;低体积分数(2%)的N2有利于获得高度取向(100)的金刚石膜。
- 张莹汪建华熊礼威吕琳
- 关键词：微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜氮气
- 超纳米金刚石薄膜的性能和制备及应用被引量：4
- 2014年
- 超纳米金刚石具有优异的物理和化学性质,化学气相沉积法制备超纳米金刚石膜近年来引起了该领域相关研究人员的极大关注。文章对超纳米金刚石与其他CVD金刚石的性质进行了对比,对超纳米金刚石的生长机理进行了简要概述,着重分析了各种化学气相沉积技术制备超纳米金刚石的基本原理、特点及取得的研究成果,最后详细讨论了超纳米金刚石的应用和今后研究方向。
- 吕琳汪建华翁俊张莹
- AMOLED制备关键技术研究
- 2013年
- 本文概述了AMOLED的显示原理及其优势,详细论述了AMOLED显示器制备的核心工艺,包括蒸镀、TFT背板技术和封装等,重点分析了这些工艺技术对AMOLED显示器显示性能和寿命的影响,并针对这些关键技术进行了论证对比分析,最后对进一步提高AMOLED显示性能的研究做出展望。
- 吕琳汪建华熊礼威
- 关键词：AMOLED
