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文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 5篇一般工业技术

主题

  • 4篇透射
  • 4篇透射率
  • 4篇光学
  • 2篇光学常数
  • 2篇TA
  • 2篇TIO
  • 2篇X
  • 1篇带隙
  • 1篇电子束蒸发
  • 1篇氧流量
  • 1篇退火
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束辅助
  • 1篇化合物
  • 1篇化合物制备
  • 1篇光学薄膜
  • 1篇光学带隙
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能
  • 1篇TA2O5

机构

  • 5篇武汉理工大学

作者

  • 5篇郭培涛
  • 5篇薛亦渝
  • 5篇张光勇
  • 5篇王汉华
  • 5篇马中杰

传媒

  • 2篇真空
  • 1篇光电工程
  • 1篇真空电子技术
  • 1篇压电与声光

年份

  • 2篇2008
  • 3篇2007
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
(1-x)TiO_2-xTa_2O_5薄膜的光学性能研究被引量:1
2008年
TiO_2-Ta_2O_5薄膜是较新颖的光学薄膜,由均匀混合的两种化合物薄膜材料作为膜料研制而成,本文采用离子辅助蒸发的方法,以不同配比的Ta_2O_5和TiO_2混合物为初始膜料在K_9玻璃上制备了TiO_2-Ta_2O_5混合薄膜,并对其光学性能进行研究。实验结果表明,TiO_2-Ta_2O_5薄膜在可见光范围内有较高的透射率,消光系数在10-3~10-4数量级,折射率在1.80~2.07范围内变化(550nm),是理想的光学镀膜材料。随着Ta_2O_5含量从0增加到20%,光学带隙从3.266eV单调增加到3.417eV,并用Kayanuma提出的模型解释了透射谱中吸收边的漂移现象。
王汉华薛亦渝郭培涛张光勇马中杰
关键词:透射率光学常数光学带隙
Ti-O化合物制备TiO_2薄膜热处理及透射率研究被引量:1
2007年
采用离子束辅助蒸发,以TiO2,Ti3O5,Ti2O3为膜料,制备了具有良好光学透射性的TiO2薄膜。结果分析表明,所制备出的TiO2薄膜均为非晶态结构,退火后薄膜发生晶化均具有明显的(101)择优取向;晶化的程度和退火温度的高低有关;退火处理之后以TiO2,Ti3O5为膜料制备的薄膜透射率下降,而以Ti2O3为膜料的上升;膜料不同对氧的需求量不同:以TiO2,Ti3O5为膜料制备薄膜所需氧量,远小于以Ti2O3为膜料所需氧量,氧流量过多降低了薄膜的透射性能,且随氧流量的不同,薄膜的透射率曲线均发生偏移,膜料不同偏移度也不同。
郭培涛薛亦渝张光勇王汉华马中杰
关键词:退火氧流量透射率
电子束蒸发沉积Ta_2O_5光学薄膜的研究被引量:8
2008年
通过正交实验,以Ta2O5为初始膜料,采用离子源辅助电子束蒸发技术制备了Ta2O5光学薄膜。透射光谱显示,所制备的Ta2O5光学薄膜具有较高的透射率,极值点透射率约为93%,接近K9玻璃基片的透射率。极差分析表明,基片温度和离子源氧气流量是影响薄膜透射率的两个主要因素,而沉积速率的影响很小。分析了各制备参数对Ta2O5薄膜光学性能的影响,得到了采用离子源辅助电子束蒸发制备Ta2O5光学薄膜的最佳工艺参数。
张光勇薛亦渝郭培涛王汉华马中杰
关键词:TA2O5电子束蒸发透射率
离子辅助蒸发(1-x)TiO_2-(x)Ta_2O_5薄膜及其光学性能研究
2007年
采用离子辅助蒸发的方法,以不同配比的Ta2O5和TiO2混合物为初始膜料在K9玻璃上制备了TiO2-Ta2O5混合薄膜,并对其透射性能和光学常数进行研究。实验结果表明,薄膜在可见光范围内的平均透射率在82%以上,并随着Ta2O5含量的增加而增加;薄膜的折射率在1.80~2.07范围内变化(550nm)。对同一Ta2O5含量的薄膜来说,退火后TiO2薄膜和80TiO2-20Ta2O5薄膜的折射率较退火前提高,而90TiO2-10Ta2O5薄膜的折射率较退火前降低。
王汉华薛亦渝郭培涛张光勇马中杰
关键词:透射率光学常数
氧化钽薄膜表面形貌和光学性能的研究被引量:10
2007年
本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量。用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率。实验及分析结果表明:所制备的Ta2O5薄膜表面平整度高,是弱吸收薄膜,随薄膜厚度的增加短波截止波长向长波方向略有漂移;折射率随膜厚的变化不大,此制备工艺的可重复性强,制备薄膜性能稳定;薄膜表面粗糙度随膜厚的增加而增加,但是增加不大,所制备Ta2O5薄膜是理想光学薄膜;离子束的加入,使得薄膜表明形貌变化更加复杂,打破了热蒸发制备薄膜的柱状生长模式。
郭培涛薛亦渝张光勇王汉华马中杰
关键词:离子束辅助AFM表面形貌光学性能
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