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武洋

作品数：4 被引量：1H指数：1
供职机构：西安电子科技大学更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 4篇光刻
  • 3篇掩模
  • 3篇图像
  • 3篇无掩模
  • 2篇预处理
  • 2篇冗余
  • 2篇数字微镜
  • 2篇图像预处理
  • 1篇电路
  • 1篇调制器
  • 1篇掩膜
  • 1篇数字光处理
  • 1篇数字光处理器
  • 1篇自适
  • 1篇自适应
  • 1篇无掩模光刻
  • 1篇空间光调制器
  • 1篇集成电路
  • 1篇光调制器
  • 1篇光刻机

机构

  • 4篇西安电子科技...

作者

  • 4篇武洋
  • 3篇杨刚
  • 2篇石峰
  • 1篇杨越
  • 1篇姜福义
  • 1篇姚洪涛

年份

  • 1篇2019
  • 3篇2017
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
基于FPGA的无掩膜光刻PCB板校正系统及方法
本发明提出了一种基于FPGA的无掩膜光刻PCB板校正系统及方法，用于解决现有技术中存在的校正精度和效率低的技术问题，校正系统包括数字光处理器和旋转移动平台，数字光处理器包括FPGA单元、空间光调制器、光源和透镜,数字光处...
杨刚杨越姜福义武洋姚洪涛
文献传递
无掩模光刻技术及其曝光方案研究
光刻技术是集成电路制造的核心技术，它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小，同时掩模板的成本和制作周期大幅增加，导致光刻生产的流程复杂且成本高昂。近年来一些无需掩模板的光刻技术飞速发展，其中基于空间光调制器（SLM）...
武洋
关键词：无掩模光刻成像模型自适应集成电路
一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法
一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法，用于提高大面积光刻尤其是批量光刻中的图像预处理速度。本发明采用N组（每组m个）数字微镜DMD，在曝光图像的预处理阶段，只生成图像中相似的N块区域中的一份曝光帧数据；相应地把N组数字...
杨刚武洋吴晨枫石峰
一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法
一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法，用于提高大面积光刻尤其是批量光刻中的图像预处理速度。本发明采用N组（每组m个）数字微镜DMD，在曝光图像的预处理阶段，只生成图像中相似的N块区域中的一份曝光帧数据；相应地把N组数字...
杨刚武洋吴晨枫石峰
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