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崔志翔

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：盐城工学院更多>>
发文基金：江苏省高校科研成果产业化推进项目江苏省自然科学基金更多>>
相关领域：机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程

主题

  • 1篇蓝宝
  • 1篇蓝宝石
  • 1篇蓝宝石衬底
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇CMP
  • 1篇材料去除率
  • 1篇衬底

机构

  • 1篇江苏大学
  • 1篇盐城工学院

作者

  • 1篇黄传锦
  • 1篇周海
  • 1篇高翔
  • 1篇冯欢
  • 1篇崔志翔

传媒

  • 1篇制造业自动化

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
蓝宝石衬底化学机械抛光中材料去除特性的研究被引量：5
2014年
衬底基片的化学机械抛光(CMP)同时兼顾材料去除率及衬底表面质量,在抛光过程中,化学作用与机械作用相辅相成同时参与抛光,化学作用与机械作用的平衡对能否得到满意的衬底表面有重要有意义。针对蓝宝石衬底基片的CMP材料去除率进行了研究,分析了材料去除机理。使用单因素实验法测得:压力的增加会导致材料去除率的增加,但当压力增加到某一点后,材料去除率的增加反而减缓,与此同时衬底基片表面粗糙度达到最小。这一点附近的抛光参数可以达到机械与化学作用的平衡。在实验中,当抛光压力为6kg时材料去除率达到80nm/min,表面粗糙度达到0.2nm。
高翔周海黄传锦冯欢崔志翔
关键词：蓝宝石衬底CMP材料去除率
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共1页<1>
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