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蒋晓威

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：南京工业大学材料科学与工程学院材料化学工程国家重点实验室更多>>
发文基金：江苏高校优势学科建设工程资助项目长江学者和创新团队发展计划更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇电性能
  • 1篇膜厚
  • 1篇介电
  • 1篇介电性
  • 1篇介电性能
  • 1篇晶粒
  • 1篇晶粒尺寸
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇铌
  • 1篇尺寸
  • 1篇磁控

机构

  • 1篇南京工业大学

作者

  • 1篇刘云飞
  • 1篇吕忆农
  • 1篇高虹
  • 1篇蒋晓威

传媒

  • 1篇硅酸盐学报

年份

  • 1篇2016
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
晶粒尺寸和膜厚对磁控溅射法制备Bi_(1.5)Mg_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜介电性能的影响(英文)
2016年
采用磁控溅射法在Pt/Ti/Si O2/Si基底上制备立方焦绿石结构Bi1.5Mg1.0Nb1.5O7薄膜。通过控制750℃下后退火时间来控制薄膜的平均晶粒尺寸,用沉积时间控制膜厚。研究不同晶粒尺寸和膜厚对BMN薄膜相结构、微观形貌和介电性能的影响。结果表明,当BMN薄膜平均晶粒尺寸为45 nm、膜厚为430 nm时,薄膜介电性能提高显著,1 MHz下介电常数为112.4,介电损耗为0.001 82,在0.93 MV/cm外加电场条件下,介电调谐率为27.7%。
晏子敬吕忆农刘云飞高虹马成建蒋晓威
关键词：晶粒尺寸膜厚介电性能
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共1页<1>
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