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电弧沉积ZrN涂层影响因素分析(英文): 采用多弧离子镀技术在Si片和不锈钢基体上沉积制备了ZrN涂层。采用正交实验分析了工艺参数对涂层硬度的影响。结果发现基体偏压是最显著影响因素。分析认为,偏压的作用原理可能是细晶强化、残余压应力、固溶强化以及涂层出现硬择优取...; 杜军张平蔡志海赵军军田飞; 关键词：电弧 ZRN涂层正交实验偏压; 文献传递

Zr基氮化物涂层的耐盐水腐蚀性能: 采用离子镀(ion-plated deposition)在NdFeB基体上沉积ZrN、ZrN/Zr多层、TiN/Ti多层、ZrN/TiN多层复合系列涂层,考察了其在20%的盐水中(20℃)的耐腐蚀性能,分析了腐蚀过程。采...; 杜军张平赵军军蔡志海田飞; 关键词：ZRN涂层多弧离子镀防腐; 文献传递

电弧沉积ZrN涂层影响因素分析: 采用多弧离子镀技术在Si片和不锈钢基体上沉积制备了ZrN涂层。采用正交实验分析了工艺参数对涂层硬度的影响。结果发现基体偏压是最显著影响因素。分析认为,偏压的作用原理可能是细晶强化、残余压应力、固溶强化以及涂层出现硬择优取...; 杜军张平蔡志海赵军军田飞; 关键词：电弧 ZRN涂层正交实验偏压; 文献传递

脉冲偏压离子镀的研究现状被引量：6: 2009年; 脉冲偏压电弧离子镀的成膜过程远离热力学平衡态，与直流偏压电弧离子镀相比，具有成膜温度低、薄膜质量好和应力低等优点。从大颗粒净化作用、低温沉积、沉积速率、微观组织结构、内应力与结合强度、硬度等方面，综述了近年来脉冲偏压对薄膜性能影响的研究结果，重点讨论了机理方面的新成果，综述了脉冲偏压电源的研究状况，并对脉冲偏压电弧离子镀技术的应用前景进行了展望。; 张平杜军田飞蔡志海; 关键词：脉冲偏压电弧离子镀

低反射高吸收电磁屏蔽材料的研究现状被引量：3: 2009年; 低反射、高吸收的电磁屏蔽材料是指将电磁能的大部分吸收,而反射很少的一类屏蔽材料,其在某些特殊要求的场合具有重要的研究意义和应用价值.文章分别介绍了低反射、高吸收电磁波屏蔽材料的屏蔽原理、功能实现途径、研究内容以及在军事装备领域的应用四部分内容,综述了此类电磁屏蔽材料的研究现状并指出发展方向.; 杜军张平田飞; 关键词：高吸收电磁屏蔽

NdFeB基体ZrN涂层的耐腐蚀性能被引量：11: 2009年; 采用离子镀技术在NdFeB基体上沉积ZrN、ZrN／Zr多层和TiN／Ti多层涂层，考察了其耐腐蚀性能，分析了腐蚀过程。采用静态全浸腐蚀试验（20％NaCl，20℃）测定其失重曲线，扫描电子显微镜（SEM）分析腐蚀前、后的涂层表面形貌变化及腐蚀过程，用CH1600B系列电化学分析仪测试极化电位。试验发现：未镀层NdFeB基体在4h后明显失重，随时间延长失重速率增加。施加涂层基体10h后失重，随时问失重速率增加，但小于未镀层试样。NdFeB基体的自腐蚀电位约-1．037V，腐蚀电流1．69×10^-3A／cm^2；施加涂层后自腐蚀电位向正向移动0．131V（TiN／Ti）-0．258V（ZrN），腐蚀电流10^-5～10^-6A／cm^2；ZrN／Zr涂层由7层增加到14层后，腐蚀电位提高0．037V，腐蚀电流降低。结果说明：离子镀沉积ZrN系列涂层显著提高NdFeB耐腐蚀性能。增加ZrN／Zr周期能够提高耐蚀性能。腐蚀源首先在涂层表面缺陷与基体结合部位形成。一旦形成腐蚀源，NaCl晶体即在基体上结晶并生长，随着此过程进行，涂层逐步腐蚀。; 杜军张平赵军军蔡志海田飞; 关键词：ZRN涂层 NDFEB 耐腐蚀多弧离子镀

基片方向对多弧离子镀ZrN涂层性能的影响被引量：2: 2009年; 采用多弧离子镀在304不锈钢基体表面沉积ZrN涂层。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、纳米压入仪、电化学分析仪等，比较了基片方向对涂层结构、形貌、成分、沉积速率、硬度以及耐腐蚀性的影响。结果表明：基片方向不同会引起晶体择优取向的改变；垂直于靶材的样品表面大颗粒相对较少，但沉积速率只有平行样品的40％-50％；在负偏压条件下，平行于靶材的样品涂层硬度更高，而垂直样品获得更好的耐腐蚀性。; 田飞张平杜军赵军军蔡志海; 关键词：多弧离子镀 ZRN 耐腐蚀性

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田飞