2024年7月22日
星期一
|
欢迎来到贵州省图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
刘道森
作品数:
2
被引量:0
H指数:0
供职机构:
内蒙古工业大学理学院
更多>>
发文基金:
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
理学
更多>>
合作作者
赵春旺
内蒙古工业大学理学院
董照实
内蒙古工业大学理学院
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
期刊文章
1篇
会议论文
领域
2篇
理学
主题
2篇
单晶
2篇
单晶硅
2篇
应变场
2篇
透射电子显微...
2篇
高分辨透射电...
1篇
形貌
1篇
微裂纹
1篇
位错
1篇
极值
1篇
极值点
1篇
硅
机构
2篇
内蒙古工业大...
作者
2篇
赵春旺
2篇
刘道森
1篇
董照实
传媒
1篇
内蒙古工业大...
年份
1篇
2011
1篇
2009
共
2
条 记 录,以下是 1-2
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
单晶硅位错纳观应变场的极值点定位分析
2011年
本文采用了具有次纳米精度的纳观应变场测量方法——极值点定位,在纳米尺度测定了单晶硅位错应变场,给出了位错芯周围数纳米区域的εxx、εyy、εxy全场应变分布图。位错芯周围是应变集中区域,位错芯前方是拉应变,位错芯后方是压应变。将应变测量结果与Peierls-Nabarro位错模型进行了对比,结果证实Peierls-Nabarro位错模型能够在纳米尺度准确描述单晶硅位错的应变场。
董照实
赵春旺
刘道森
关键词:
位错
高分辨透射电子显微镜
硅
单晶硅微裂纹形貌及应变场的纳观实验研究
本文使用高分辨透射电子显微镜观察了单晶硅中一个纳米级微裂纹,采用几何相位分析和数值云纹研究了裂尖区域的变形场。在约18纳米的尺度分析了微裂纹的晶格结构,经过仔细的观察,发现大部分微裂纹区域的晶格结构是规则的、具有良好周期...
刘道森
赵春旺
关键词:
微裂纹
高分辨透射电子显微镜
文献传递
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张