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张春晖

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：浙江大学光电信息工程学系现代光学仪器国家重点实验室更多>>
发文基金：中国航空科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

题名
作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇光刻
  • 1篇光刻工艺

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇梁宜勇
  • 1篇陈龙江
  • 1篇杨国光
  • 1篇张春晖

传媒

  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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双光谱法实现光刻工艺中的胶厚检测被引量：1
2009年
提出了一种光刻胶厚度测量方法,即双光谱法。采用AZ4620正型光刻胶甩胶于平面玻璃基片,以椭偏仪测量的结果为基准。通过双光谱法的测量,检测经过基片的出射光相对入射光强度的变化,达到测量胶厚的目的,结果偏差在2%以内。与传统的膜厚检测方法相比,有计算方法简便,可操作性强等优点。针对光刻胶有曝光的特性,双光谱法更适合于胶厚检测。
张春晖陈龙江梁宜勇杨国光
关键词：光刻
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