向霞
- 作品数：93 被引量：200H指数：7
- 供职机构：电子科技大学物理电子学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程化学工程更多>>
- 退火参数对熔石英透射波前和损伤阈值的影响被引量：3
- 2011年
- 采用高温退火技术去除熔石英元件表面由于CO2激光修复带来的残余应力,研究了退火环境对元件的表面污染,分析了不同退火温度(600～900℃)和保温时间(3～10h)对于元件残余应力、透射波前、表面粗糙度和激光损伤阈值的影响。结果表明:在800℃以下,高温退火10h可有效去除CO2激光修复带来的残余应力,对元件的透射波前和表面粗糙度无明显影响;石英保护盒能有效减少退火环境对元件表面产生的污染,但仍有X射线光电子能谱检测不到的表面污染物存在;在退火后采用质量分数为1%的HF刻蚀15min,激光损伤阈值可恢复,同时元件透射波前和表面粗糙度并无明显的增加。
- 向霞郑万国袁晓东蒋勇戴威黄进王海军李熙斌吕海兵贺少勃祖小涛
- 关键词：熔石英残余应力热退火损伤阈值
- 等离子体结合六甲基二硅胺烷处理提升增透膜抗真空污染性能研究被引量：1
- 2021年
- 本文采用溶胶-凝胶法制备了SiO_(2)增透膜,然后对其进行等离子体结合六甲基二硅胺烷(HMDS)表面改性处理。研究了后处理改性对增透膜表面形貌、微观结构、光学性能及激光损伤性能的影响规律,获得了抗真空有机污染的二氧化硅增透膜。结果表明,增透膜在采用等离子体结合HMDS表面改性处理后,膜层收缩、粗糙度下降、极性羟基等有机基团含量减少;两步后处理改善了增透膜膜层结构和光学性能,显著提高了膜层疏水能力和真空条件下的抗污染性能,并且对溶胶-凝胶二氧化硅增透膜的高损伤阈值属性不产生影响。
- 董祥吕海兵严鸿维黎波向霞蒋晓东
- 关键词：等离子体处理
- 氨处理抑制SiO_2/ZrO_2薄膜膜间渗透被引量：1
- 2009年
- 以正硅酸乙酯和丙醇锆为原料,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经氨处理后再镀ZrO2。研究表明,ψ和Δ两个椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现氨处理可有效抑制SiO2/ZrO2双层膜之间的渗透,氨处理后渗透层减少近45 nm。利用激光束对两种样品进行了损伤阈值的测试,用光学显微镜观察损伤形貌,结果发现两者损伤阈值分别为14.8和15.03 J/cm2,损伤形貌均为熔融型。
- 章春来尹伟祖小涛王毕艺向霞袁晓东蒋晓东吕海兵郑万国
- 关键词：溶胶-凝胶激光损伤阈值
- Ti-2Al-2.5Zr合金在300℃碱性水中氧化的表面分析被引量：6
- 2003年
- 利用原位 AES深度分析 ,XRD,和 XPS方法研究了 Ti- 2 Al- 2 .5 Zr合金在 30 0℃碱性水中氧化 130 0 0 h所形成的氧化膜的结构、成分和价态 ,及其随深度的变化。结果表明 ,氧化膜是由板钛型 Ti O2 、Al2 Ti O5(Ti O2 ·Al2 O3) ,Ti3O5,Ti2 O3和 Ti O所组成 ,氧化膜由表面到基体基本是按以上顺序交迭构成。通过 XPS和原位 AES分析发现钛合金表面形成由 Ti O2 ,Al2 Ti O5(Ti O2 ·Al2 O3) ,Ti3O5组成的较为稳定的厚约 80 0 nm的 Ti4 + (Ti O2 )层 ,随深度的增加出现了 Ti3+ (Ti3O5,Ti2 O3)和 Ti2 + (Ti O) ,直至基体 ,氧化膜总厚度约 30 0 0 nm。
- 封向东祖小涛王治国向霞牟云峰邱绍宇李燕伶黄新泉
- 关键词：TI-2AL-2.5ZR合金XPS分析钛合金
- 一种增透膜清洗复用装置
- 本实用新型公开了一种增透膜清洗复用装置，属于增透膜清洗装置技术领域，通过将增透膜及基底光学元件采用夹具垂直放置在真空腔室内，真空腔室一端使用盲板密封，一端采用石英玻璃密封。启动真空机组，真空泵快速将腔体内气压降低至设定值...
- 董祥向霞祖小涛吕海兵严鸿维刘昊苗心向
- 文献传递
- 单晶中植入纳米晶微结构及光电性能研究
- 2006年
- 单晶α-Al_2O_3、MgO、YSZ和TiO_2在室温下分别注入Ni^+和Zn^+离子,然后在氧化气氛中退火,以形成金属及其氧化物纳米晶．形成的纳米复合结构分别采用X射线光电子能谱(XPS)表征各元素化学价态;用X射线衍射分析(XRD)检测纳米结构的结晶形态;用透射电子显微分析(TEM)观察纳米晶的微观结构及分布情况;吸收光谱和荧光光谱分别用来表征纳米复合结构的宏观光学性能;超导量子干涉磁强计(SQUID)测量磁性纳米晶的矫顽力及截止温度．研究表明:在几种单晶材料中分别形成的金属Ni和Zn具有表面等离子共振吸收效应,ZnO纳米晶具有较强的绿光发射,铁磁性金属Ni纳米晶具有比常规块材大的矫顽力。这些性能在光学滤波片、蓝/绿发光器件和磁存储器方面板具应用前景．
- 祖小涛向霞
- 关键词：纳米晶离子注入单晶光学性能磁学性能
- 离子注入对YSZ和Al<,2>O<,3>单晶光学性能的影响
- 离子注入是一种重要的表面改性技术,YSZ(yttria-stabilized cubic zirconia)和α-Al<,2>O<,3>是两种性能优良的陶瓷,前者是目前发现的最抗辐照的绝缘体,而后者则是抗辐照最差的绝缘体...
- 向霞
- 关键词：单晶离子注入TEMXPS辐照损伤
- 文献传递
- CO_2激光对熔石英表面小尺寸损伤的修复被引量：5
- 2010年
- 利用10.6μm的CO2激光对不同直径的点状损伤和不同宽度的划痕进行了修复。经过波长351nm的紫外激光考核发现,对于直径小于80μm的点状损伤和对于宽度小于40μm的划痕,随着损伤点尺寸和划痕宽度的增加,修复后阈值提高程度逐渐降低。划痕的宽度在达到40μm以后修复效果非常微弱。修复过程中,由于作用时间较短及温度分布不均产生了热应力导致样片损伤以后产生径向裂痕,后续的紫外激光会使裂痕明显扩展。当样品被置于高温退火炉内退火3h以后,应力导致开裂的现象得到了解决。
- 李熙斌吕海兵向霞王海军陈猛王成程袁晓东郑万国
- 关键词：CO2激光熔石英热应力
- 熔石英亚表面三维Hertz锥形划痕附近光强分布的数值模拟被引量：3
- 2010年
- 熔石英亚表面划痕对入射激光的调制是导致光学材料损伤的主要因素.本文建立了熔石英后表面上三维Hertz锥形划痕模型,采用三维时域有限差分方法对划痕周围的电场强度进行了计算模拟,并分别讨论了划痕的深度、半径以及倾斜角度对入射光场调制作用的影响.结果表明:Hertz锥形划痕中心区域的电场增强效果最明显,最容易被辐照损伤;划痕的深度从λ变化到9.5λ的过程中,熔石英内的最大电场强度逐渐增大;半径小于1.5λ的Hertz锥形划痕较容易引起熔石英的损伤,当半径大于1.75λ时,熔石英内的最大电场强度都维持在2.5V/m,不再受半径大小影响;当入射激光在划痕的内侧界面和熔石英后表面之间发生内全反射时,光场增强效果愈加明显.
- 花金荣祖小涛李莉向霞陈猛蒋晓东袁晓东郑万国
- 关键词：电场分布数值模拟
- Ni^+离子注入单晶氧化铝的光学性能研究被引量：2
- 2003年
- 4种不同掺杂的单晶α-Al2O3在注入能量为64keV、剂量为1×1017cm-2的Ni+离子后颜色变灰,透明度下降,未掺杂无色样品在900℃的空气中退火2h后,灰色褪去,呈现淡黄色,透明度增加。XPS测试结果表明,注入单晶中的Ni+离子主要以Ni0存在,样品颜色变灰很可能与单质Ni0的存在有关。空气中退火后Ni0被氧化成Ni2+,但氧化层较薄。吸收光谱测试结果表明,无色样品注入Ni+离子后,在峰值为400nm位置出现了一个由Ni2+离子的3A2→3T1(F)跃迁产生的宽吸收带;其余3种有色样品中由于Ni2+的吸收与Cr3+离子在紫光区的吸收带重叠,故观察不到新的吸收带。荧光光谱测试没有观察到注入的Ni+离子对样品发光的影响,与Ni+离子主要以Ni0存在有关。
- 向霞曾光廷鲍军委霍永忠邬绍轶王治国祖小涛
- 关键词：离子注入XPS吸收光谱荧光光谱
