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文献类型

  • 2篇会议论文
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  • 1篇科技成果

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 4篇光纤
  • 2篇包层
  • 1篇有源光纤
  • 1篇瑞利散射
  • 1篇散射
  • 1篇石英
  • 1篇时域反射计
  • 1篇双包层
  • 1篇通信
  • 1篇通信光纤
  • 1篇铒镱共掺
  • 1篇稀土
  • 1篇纤芯
  • 1篇共掺
  • 1篇光时域反射
  • 1篇光时域反射计
  • 1篇光纤结构
  • 1篇光纤纤芯
  • 1篇包层光纤
  • 1篇保偏

机构

  • 4篇中国电子科技...

作者

  • 4篇朱守正
  • 3篇杨德胜
  • 2篇高亚明
  • 2篇刘笑东
  • 2篇宁鼎
  • 2篇周述文
  • 2篇刘永建
  • 2篇王芹
  • 1篇冯光
  • 1篇衣永青
  • 1篇王村夫
  • 1篇苏连义
  • 1篇冯光
  • 1篇韩志辉

传媒

  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇全国第14次...

年份

  • 2篇2009
  • 2篇2007
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
纯石英芯掺氟玻璃包层光纤
本文对纯石英芯掺氟玻璃包层光纤制造工艺进行了阐述。纯石英芯掺氟玻璃包层光纤是一种具有广泛应用领域的激光能量传输光纤,眼下这种大芯径的光纤主要用于传输半导体激光器及其组件发出的激光。国外采用POD(等离子体外相沉积)技术生...
高亚明冯光刘永建杨德胜王村夫周述文刘笑东王芹朱守正
关键词:通信光纤光纤结构
文献传递
掺铒光纤的研制被引量:5
2009年
掺铒光纤主要用来制作掺铒光纤放大器(EDFA)和掺铒光纤宽带光源(EDFS),在制作工艺上有液相掺杂、气相掺杂和螯合物掺杂,鉴于国内现有的设备条件和技术,近年来在研制掺铒光纤的过程中,采用了传统的液相掺杂制作工艺,但对其进行了大胆的改进和优化,在掺铒光纤制作工艺上取得了重大进展,光纤参数明显提高,与国外的同类型光纤比较,差距大幅度缩小,主要参数已达到或接近国外同类型掺铒光纤水平,本底损耗达到3.74dB/km,数值孔径为0.236,980nm吸收损耗达到6.05dB/m,在相当程度上已能够满足国内掺铒光纤放大器和掺铒光纤宽带光源研制单位对掺铒光纤的需要。
高亚明冯光刘永建韩志辉杨德胜周述文朱守正苏连义
关键词:掺铒光纤有源光纤掺杂稀土
利用光时域反射计(OTDR)检测保偏光纤纤芯缺陷技术
本文通过对光纤缺陷点的检测及分析,得出工作波长是1310nm的保偏光纤纤芯缺陷点,可以用OTDR(光时域反射计)的1550nm的光源检测出来。
吴少波宁鼎朱守正刘笑东
关键词:保偏光纤瑞利散射
文献传递
铒镱共掺双包层光纤
衣永青宁鼎赵金歧荆光明杨德胜吴少波王芹朱守正
该项目采用MCVD工艺结合溶液掺杂技术,首次在国内解决了在高掺稀土元素的条件下的析晶问题,掌握了研制铒镱共掺双包层光纤的关键技术,光纤的掺杂浓度高和纵向均匀性好,通过工艺的改进,降低了光纤的本底损耗(1.3μm,损耗≤5...
关键词:
关键词:光纤铒镱共掺双包层
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