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史继祥

作品数：9 被引量：18H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信理学金属学及工艺冶金工程更多>>

合作作者

领域

  • 19个电子电信
  • 12个理学
  • 5个金属学及工艺
  • 3个化学工程
  • 3个冶金工程
  • 3个机械工程
  • 3个电气工程
  • 2个自动化与计算...
  • 2个一般工业技术
  • 1个动力工程及工...
  • 1个交通运输工程
  • 1个文化科学

主题

  • 17个单晶
  • 11个硅单晶
  • 9个晶向
  • 8个锗单晶
  • 7个少子寿命
  • 7个抗辐照
  • 7个抗辐照加固
  • 7个硅片
  • 7个辐照加固
  • 6个单晶生长
  • 6个载流子
  • 6个载流子寿命
  • 6个少数载流子
  • 6个少数载流子寿...
  • 6个禁带
  • 6个禁带宽度
  • 6个光注入
  • 5个单晶片
  • 5个砷化镓
  • 4个单晶炉

机构

  • 20个中国电子科技...
  • 4个中国电子科技...
  • 2个天津大学
  • 1个河北工业大学
  • 1个中电集团
  • 1个电子部
  • 1个信息产业部
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 4个国家部委资助...
  • 3个天津市自然科...
  • 2个国家自然科学...
  • 1个国防基础科研...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家科技部专...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 16个半导体技术
  • 16个电子工业专用...
  • 10个天津科技
  • 7个第十三届全国...
  • 4个电子工艺技术
  • 3个第十四届全国...
  • 2个Journa...
  • 2个工业计量
  • 2个人工晶体学报
  • 2个微纳电子技术
  • 2个第十五届全国...
  • 1个燃烧科学与技...
  • 1个车用发动机
  • 1个工程塑料应用
  • 1个实验力学
  • 1个合肥工业大学...
  • 1个现代塑料加工...
  • 1个内燃机工程
  • 1个天津大学学报...
  • 1个电源技术

地区

  • 17个天津市
  • 3个北京市
共 20 条 记 录，以下是 1-10
佟丽英
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王聪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硼 扩散 AL 染色液 P
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王春梅
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硼 GAAS单晶 晶向 硼扩散 砷化镓单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张继荣
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 电阻率 少子寿命 DLY 校准方法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王俭峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：LPCVD TEOS 二氧化硅薄膜 均匀性 淀积速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王世援
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 碳 碳复合材料 掺磷 硅单晶生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨春明
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：超声波清洗 硅片 单晶硅 晶片 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：汽油机 滚流 硅单晶 进气道 缸内
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
索开南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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共2页<12>
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