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岳宏卫

作品数：158 被引量：79H指数：4
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共 80 条 记 录，以下是 1-10
徐卫林
供职机构：桂林电子科技大学
研究主题：电荷泵 基准电压源 共源共栅电流镜 低温漂 抑制比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韦雪明
供职机构：桂林电子科技大学
研究主题：低功耗 基准电压源 低温漂 偏置点 正反馈
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
段吉海
供职机构：桂林电子科技大学
研究主题：电荷泵 CMOS 基准电压源 低温漂 偏置点
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韦保林
供职机构：桂林电子科技大学
研究主题：电荷泵 CMOS 整流器 低电压 输入端
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙晓菲
供职机构：桂林电子科技大学
研究主题：共源共栅电流镜 抑制比 低温漂 偏置点 基准电压源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
阎少林
供职机构：南开大学
研究主题：超导薄膜 高温超导薄膜 高温超导 约瑟夫森结 TL
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵新杰
供职机构：南开大学
研究主题：超导薄膜 约瑟夫森结 高温超导薄膜 高温超导 TL
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
方兰
供职机构：南开大学信息技术科学学院
研究主题：超导薄膜 高温超导薄膜 高温超导 约瑟夫森结 TL
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱智勇
供职机构：桂林电子科技大学
研究主题：标准CMOS工艺 CMOS基准电压源 偏置点 基准电压源 共源共栅电流镜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢清连
供职机构：广西师范学院
研究主题：超导薄膜 TL 高温超导薄膜 蓝宝石 缓冲层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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