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周国安

作品数：24 被引量：57H指数：5
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詹阳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 抛光垫 承载器 ZETA电位
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王学军
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 化学机械平坦化 光学 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
种宝春
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 CMP 化学机械抛光 砂浆 动态特性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐存良
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 CMP设备 RCA 湿法清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邱勤
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：铜 ULSI 化学机械抛光 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘多勤
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张志军
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：晶片 倒角 CMP 铜 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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