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柳滨

作品数：29 被引量：65H指数：5
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周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王学军
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 化学机械平坦化 光学 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
种宝春
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 CMP 化学机械抛光 砂浆 动态特性
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陈威
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 300MM硅片 有限元模型 有限元分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
詹阳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 抛光垫 承载器 ZETA电位
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 IC 300MM硅片 SOLIDWORKS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 大盘 温度 水压
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郭强生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：粘片机 集成电路 视觉检测 发光二极管 伺服控制系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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