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李洪波

作品数:10 被引量:15H指数:3
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金:河北省自然科学基金河北省教育厅科研基金国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信化学工程理学更多>>

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13 条 记 录,以下是 1-10
李炎
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:聚苯胺 防腐涂料 磨料 表面粗糙度 涂料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
樊世燕
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 磨料 黏度 CMP 数据挖掘
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐继英
供职机构:天津冶金职业技术学院
研究主题:化学机械抛光 磨料 黏度 现场总线 监控画面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王傲尘
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:磨料 化学机械平坦化 CMP 去除速率 化学反应动力学
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张金
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 去除速率 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫辰奇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐继英
供职机构:河北工业大学
研究主题:ARM BOOTLOADER UCLINUX S3C44B0 S3C4480
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张宏远
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 抛光速率 HCL 钽 盐酸胍
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何彦刚
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 阻挡层 CMP 化学机械抛光 抛光表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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