您的位置： 专家智库 > >

王东辉

作品数：6 被引量：13H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

  • 10个电子电信
  • 7个自动化与计算...
  • 3个建筑科学
  • 2个机械工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个电气工程

主题

  • 10个化学机械抛光
  • 10个机械抛光
  • 9个抛光
  • 9个CMP
  • 7个抛光垫
  • 6个平坦化
  • 6个化学机械平坦...
  • 4个氮化镓
  • 4个修整器
  • 4个旋转木马
  • 4个优化设计
  • 4个有限元
  • 4个有限元分析
  • 4个有限元模型
  • 4个数据处理
  • 4个抛光机
  • 4个转塔
  • 3个第三代半导体
  • 3个修整
  • 3个原子力显微镜

机构

  • 10个中国电子科技...
  • 2个电子工业部
  • 2个中华人民共和...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个华中科技大学

资助

  • 6个国家科技重大...
  • 2个北京市教育委...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个中国博士后科...
  • 1个电子信息产业...
  • 1个中央高校基本...

传媒

  • 10个电子工业专用...
  • 3个半导体技术
  • 3个微纳电子技术
  • 2个微细加工技术
  • 2个计算机测量与...
  • 1个机械工程学报
  • 1个集成电路应用
共 10 条 记 录，以下是 1-10
杨元元
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
詹阳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 抛光垫 承载器 ZETA电位
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 IC 300MM硅片 SOLIDWORKS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭强生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：粘片机 集成电路 视觉检测 发光二极管 伺服控制系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴旭
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 伺服电机 闭环控制 DXF文件 DXF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高文泉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 化学机械抛光 夹持 温度控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈威
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 300MM硅片 有限元模型 有限元分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0