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刘燕

作品数：5 被引量：4H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

领域

  • 8个电子电信
  • 6个理学
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  • 1个电气工程
  • 1个一般工业技术
  • 1个文化科学

主题

  • 8个单晶
  • 8个电阻率
  • 6个单晶生长
  • 6个区熔
  • 6个区熔硅单晶
  • 6个硅单晶
  • 6个硅单晶生长
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机构

  • 8个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
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  • 1个河北工业大学

资助

  • 2个国家部委资助...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 8个半导体技术
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  • 5个天津科技
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  • 1个人工晶体学报
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  • 1个第九届中国太...
  • 1个第十四届全国...

地区

  • 6个天津市
  • 2个北京市
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董军恒
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 均匀性 区熔 少子寿命 FZ
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
索开南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫萍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 高阻 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张殿朝
供职机构：天津工业大学
研究主题：区熔 少子寿命 硅单晶 区熔硅单晶 数值模拟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
庞炳远
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 硅单晶生长 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘洪飞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 FZ 硅 均匀性 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高岗
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：FZ 硅 均匀性 单晶 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘洪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：FZ 区熔硅单晶 硅单晶 区熔 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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