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李伟

作品数：12 被引量：11H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

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领域

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主题

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机构

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传媒

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共 17 条 记 录，以下是 1-10
王伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 IC 300MM硅片 SOLIDWORKS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史霄
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP CMP技术 氮化镓 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
詹阳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 抛光垫 承载器 ZETA电位
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈威
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 300MM硅片 有限元模型 有限元分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张继静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：超声扫描 无损检测 化学机械抛光 超声 半导体设备
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王铮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP技术 氮化镓 化学机械抛光 晶片 抛光工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐存良
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 CMP设备 RCA 湿法清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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