2024年8月20日
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杨树
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2
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H指数:1
供职机构:
香港科技大学
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相关领域:
电子电信
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合作作者
包琦龙
中国科学院微电子研究所
黄森
中国科学院微电子研究所
刘新宇
中国科学院微电子研究所
王鑫华
中国科学院微电子研究所
魏珂
中国科学院微电子研究所
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王鑫华
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 势垒层 GAN 刻蚀 衬底
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研究领域
陈敬
供职机构:香港科技大学
研究主题:高电子迁移率晶体管 场效应晶体管 沟道 晶体管 HEMT
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刘新宇
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 刻蚀 欧姆接触 ALGAN/GAN 衬底
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供职机构
所获资助
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魏珂
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 刻蚀 势垒层 欧姆接触 GAN
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
包琦龙
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:高电子迁移率晶体管 二维电子气 沟道 阈值电压 功率电子器件
发表作品
相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
陈敬
供职机构:香港科技大学
研究主题:功率电子器件 功率电子 界面态 物理研究 栅介质
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相关人物
供职机构
所获资助
研究领域
黄森
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 势垒层 GAN 刻蚀 增强型
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供职机构
所获资助
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