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黄成强

作品数：21 被引量：10H指数：1
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术化学工程电子电信理学更多>>

合作作者

领域

  • 12个电子电信
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  • 1个矿业工程
  • 1个轻工技术与工...

主题

  • 12个原子层沉积
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  • 11个氧化锌
  • 10个单晶
  • 10个氮气
  • 10个电离
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  • 9个氮化
  • 9个氮化铝
  • 9个氮化碳
  • 9个氮化碳薄膜
  • 9个等离子体
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  • 8个氮化铝薄膜
  • 8个氮化镓薄膜
  • 8个等离子体辅助
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  • 7个体源

机构

  • 13个中国科学院微...
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  • 2个中国科学院嘉...
  • 1个北京科技大学

资助

  • 12个国家自然科学...
  • 9个国家科技重大...
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传媒

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地区

  • 13个北京市
共 13 条 记 录，以下是 1-10
李超波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 氧化锌薄膜 离子注入 等离子体 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 半导体制造技术 基片 化学吸附 前驱体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
饶志鹏
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 原子层沉积 化学吸附 含碳 含氮
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
万军
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 原子层沉积 化学吸附 含碳 含氮
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
石莎莉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 控制部件 氮化硅薄膜 牺牲层 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏洋
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：原子层沉积 等离子体 氧化锌薄膜 SUB 共掺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘键
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 ALGAN/GAN ALGAN/GAN_HEMT 氮化碳薄膜 氮化碳
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李勇滔
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：硅衬底 等离子体 SUB 射频电源 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕树玲
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：进气口 进气 躯体 气口 出气
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汪明刚
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：等离子体 等离子体浸没离子注入 离子注入 离子 浸没
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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