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李秀强

作品数:1 被引量:4H指数:1
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域:电子电信更多>>

领域

  • 3个电子电信
  • 2个理学
  • 1个金属学及工艺
  • 1个电气工程

主题

  • 3个淀积
  • 3个淀积速率
  • 3个氧化硅薄膜
  • 3个均匀性
  • 3个硅薄膜
  • 3个二氧化硅薄膜
  • 3个TEOS
  • 3个LPCVD
  • 2个单晶
  • 2个载流子
  • 2个载流子寿命
  • 2个锗单晶
  • 2个少数载流子
  • 2个少数载流子寿...
  • 2个少子寿命
  • 2个染色
  • 2个染色液
  • 1个单晶片
  • 1个氮化镓
  • 1个低压化学气相...

机构

  • 3个中国电子科技...
  • 1个中电集团
  • 1个中国电子科技...
  • 1个信息产业部

资助

  • 1个国防基础科研...
  • 1个国家部委资助...

传媒

  • 3个半导体技术
  • 3个电子工业专用...
  • 1个电子工艺技术
  • 1个合肥工业大学...
  • 1个工业计量
  • 1个电子元件与材...
  • 1个第十四届全国...

地区

  • 2个天津市
  • 1个北京市
3 条 记 录,以下是 1-3
王俭峰
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:LPCVD TEOS 二氧化硅薄膜 均匀性 淀积速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
佟丽英
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李亚光
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:AL 染色液 P LPCVD TEOS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
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