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张晓强

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
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王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨立兵
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 抛光 化学机械平坦化 抛光液 粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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