搜索到 篇“ 化学机械平坦化 “的相关文章

相关作者

刘玉岭
作品数:481被引量:741H指数:13
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
赵超
作品数:561被引量:33H指数:4
供职机构:清华大学
研究主题:半导体器件 衬底 栅极 沟道 金属硅化物
杨涛
作品数:222被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:刻蚀 衬底 半导体器件 化学机械平坦化 牺牲层
王辰伟
作品数:117被引量:163H指数:6
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
李俊峰
作品数:500被引量:7H指数:2
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:半导体器件 刻蚀 衬底 沟道 栅极