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抛光设备
本发明提供一种抛光设备，所述抛光设备包括：底座、围水槽、抛光轮，所述底座设置在所述围水槽内，所述抛光轮可活动地设置在所述底座上方，其中，所述抛光轮包括与待加工件上的待加工凹槽轮廓匹配的仿形抛光件。本发明通过仿形设计的仿形...
左友林陈昌明黄旷邹忠发
抛光设备
公开了一种用于抛光轴承部件(2)特别是轴承环的抛光设备(1)，其中抛光设备(1)具有容纳抛光液体(8)的容器(6)和保持设备(4)，其中保持设备(4)设计成保持轴承部件(2)并将其移入容器(6)和/或移出容器(6)，以便...
T·冯施莱尼茨
一种抛光设备
本发明提供了一种抛光设备，其包括：固定连接的抛光工作台装置和抛光轮驱动装置；抛光工作台装置用于固定待加工工件；抛光轮驱动装置用于带动抛光轮转动和相对抛光工作台装置移动。在进行抛光加工时，待加工工件固定于抛光工作台装置上，...
吕理营杨朋举
一种抛光设备
本申请涉及半导体抛光技术领域，尤其是涉及一种抛光设备，包括：设备主体，设备主体用于硅片抛光，设备主体具有加工室；过滤机构，过滤机构用于对去除设备主体内部的颗粒物，过滤机构包括：净化室，净化室连接于加工室上，净化室和加工室...
朱亮李阳健郑猛黄金涛韩鹏飞
一种抛光设备
本实用新型属于抛光设备领域，尤其是一种抛光设备，针对现有的抛光设备虽然能够对工件的曲面进行抛光，但是工件有时需要对外表面全面的抛光，这样就会使工件抛光不够均匀全面，且操作不便的问题，现提出如下方案，其包括底座，所述底座的...
刘法良
一种表面抛光设备
本实用新型属于机械加工设备技术领域，尤其涉及一种表面抛光设备，包括：机体，机体上设置有工作台面，工作台面上设置有抛光区；支撑部，支撑部设置在工作台面上；升降转动机构，升降转动机构设置在支撑部上；抛光盘，抛光盘设置在升降转...
徐锡平
化学机械抛光设备
本申请公开一种化学机械抛光设备，包括：支撑结构和限位组件，支撑结构设置在修整器所在的晶圆加工腔室的腔壁上，限位组件设置在修整器包括的支撑部与修整器包括的摆臂之间；限位组件，用于当摆臂以支撑部所在的位置为圆心旋转至极限位置...
王伟孙新颖吴大亮于书瀚
一种大米抛光设备
本实用新型涉及大米加工设备技术领域，且公开了一种大米抛光设备，包括：箱体，所述箱体的中部向内凹陷形成空腔，箱体的外壁固定有第一电机，所述空腔内设置有对大米进行打磨的抛光辊，第一电机的输出轴贯穿箱体并与抛光辊相固定，所述空...
梅树中张锋
一种自动抛光设备
本实用新型涉及磨抛设备领域，尤其涉及一种自动抛光设备；它包括抛光机械手、控制柜以及抛光机，控制柜分别与抛光机械手和抛光机电性连接，抛光机包括抛光座、安装于抛光座上的抛光电机以及与抛光电机输出轴转动连接的抛光盘，抛光座上设...
吴云江蔡曙春戴晓瑜蔡曙鹤蔡舟帆贺璟曹志赞温作满魏人楚贺干群
一种研磨抛光设备
本发明涉及研磨抛光设备技术领域，具体涉及一种研磨抛光设备，其包括机架，研磨抛光结构，包括支架组件、研磨抛光主体及研磨抛光组件，所述研磨抛光组件安装于研磨抛光主体内，所述研磨抛光主体通过支架组件安装于机架上；震动结构，安装...
谢赛
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路新春
作品数：367被引量：361H指数：11
供职机构：清华大学
研究主题：化学机械抛光 晶圆 抛光液 抛光垫 抛光
吕冰海
作品数：403被引量：744H指数：12
供职机构：浙江工业大学
研究主题：抛光 抛光液 磨粒 研磨 研磨盘
邓乾发
作品数：239被引量：213H指数：8
供职机构：浙江工业大学
研究主题：磨粒 抛光 抛光液 研磨 固着
李俊烨
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供职机构：长春理工大学
研究主题：夹具 回转体 磨粒 转动惯量 质心
袁巨龙
作品数：493被引量：1,403H指数：16
供职机构：浙江工业大学
研究主题：抛光 磨粒 研磨 研磨盘 抛光液