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河北省自然科学基金(E2010000077)

作品数：3 被引量：9H指数：1
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领域

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主题

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  • 12个机械抛光
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  • 11个抛光
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  • 5个低K介质
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机构

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资助

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地区

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共 13 条 记 录，以下是 1-10
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨立兵
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 抛光 化学机械平坦化 抛光液 粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邢哲
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP ULSI 抛光液 钽
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘利宾
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：抛光 CMP 化学机械抛光 去除速率 插塞
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王娜
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：半绝缘砷化镓 SI-GAAS 大直径 抛光液 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田雨
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 表面粗糙度 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邢少川
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 表面粗糙度 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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