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国家高技术研究发展计划(200945KY02)

作品数：2 被引量：14H指数：2
相关作者：高慧莹刘涛孙振杰罗杨费玖海更多>>
相关机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

领域

  • 5个电子电信
  • 1个经济管理
  • 1个化学工程
  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 5个抛光
  • 4个抛光机
  • 4个蓝宝
  • 4个蓝宝石
  • 4个化学机械抛光
  • 4个机械抛光
  • 4个PG
  • 4个CMP工艺
  • 3个压力控制
  • 3个正交
  • 3个正交试验
  • 3个蠕动泵
  • 3个去除率
  • 3个温度
  • 3个温度控制
  • 3个泵头
  • 3个CMP
  • 2个抛光设备
  • 2个抛光效果
  • 2个转速

机构

  • 5个中国电子科技...

资助

  • 5个国家高技术研...

传媒

  • 5个电子工业专用...
  • 1个电子工艺技术
共 5 条 记 录，以下是 1-5
高慧莹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 蓝宝石 衬底材料 LED 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 泵头 蠕动泵 压力控制 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗杨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP工艺 PG 蓝宝石 抛光机 晶圆测试
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
费玖海
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 温度控制 CMP工艺 PG
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙振杰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 泵头 蠕动泵 CMP 温度控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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