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国家自然科学基金(60876003)

作品数：8 被引量：5H指数：2
相关作者：吴海雷闫果果赵万顺王雷曾一平更多>>
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地区

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共 13 条 记 录，以下是 1-10
闫果果
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 外延层 衬底 硅源 碳化硅衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙国胜
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 3C-SIC 衬底 4H-SIC SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵万顺
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 衬底 3C-SIC 外延层 4H-SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾一平
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：分子束外延 衬底 碳化硅 氮化镓 缓冲层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴海雷
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 碳化硅衬底 PIN 微结构 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王雷
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 3C-SIC 衬底 SIC 4H-SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘兴昉
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 衬底 外延层 刻蚀 碳化硅材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗木昌
供职机构：中国电子科技集团公司第44研究所
研究主题：3C-SIC ALGAN SI衬底 碳化硅 日盲紫外
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵永梅
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 3C-SIC 衬底 刻蚀 碳化硅材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
董林
供职机构：中国科学院半导体研究所
研究主题：碳化硅 4H-SIC 晶体生长 真空系统 薄膜生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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