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国家高技术研究发展计划(200956KY02)

作品数：1 被引量：6H指数：1
相关作者：张领强陈学森高慧莹刘涛更多>>
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领域

  • 4个电子电信
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主题

  • 4个压力控制
  • 4个化学机械抛光
  • 4个机械抛光
  • 2个蠕动泵
  • 2个碳化硅
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  • 1个科技资讯
共 4 条 记 录，以下是 1-4
高慧莹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 蓝宝石 衬底材料 LED 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 泵头 蠕动泵 压力控制 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈学森
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 齿轮系统 混沌控制 时变啮合刚度 时变刚度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张领强
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：压力控制 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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