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河北省自然科学基金(F2012202094)

作品数：6 被引量：12H指数：2
相关作者：刘玉岭何彦刚唐继英张金李炎更多>>
相关机构：河北工业大学河北联合大学新疆师范大学更多>>
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相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

领域

  • 14个电子电信
  • 10个金属学及工艺
  • 9个理学
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  • 5个自动化与计算...
  • 3个一般工业技术
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  • 2个电气工程
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  • 2个环境科学与工...
  • 1个经济管理
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  • 1个冶金工程
  • 1个核科学技术
  • 1个社会学

主题

  • 14个抛光液
  • 14个化学机械抛光
  • 14个机械抛光
  • 14个碱性抛光液
  • 12个平坦化
  • 12个去除速率
  • 12个化学机械平坦...
  • 12个碱性
  • 11个速率
  • 11个铜布线
  • 10个溶胶
  • 10个抛光
  • 10个活性剂
  • 8个碟形
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  • 6个电路
  • 5个单因素
  • 5个低压
  • 4个低K材料
  • 4个低K介质

机构

  • 14个河北工业大学
  • 1个河北工学院
  • 1个中国电子科技...
  • 1个河北科技大学
  • 1个新疆师范大学
  • 1个中国电子科技...
  • 1个河北联合大学
  • 1个中国人民政治...
  • 1个杭州西湖房地...
  • 1个天津冶金职业...

资助

  • 14个国家中长期科...
  • 14个河北省自然科...
  • 9个国家科技重大...
  • 9个河北省教育厅...
  • 5个天津市自然科...
  • 4个国家自然科学...
  • 4个博士科研启动...
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传媒

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  • 10个半导体技术
  • 9个电镀与涂饰
  • 9个功能材料
  • 7个电镀与精饰
  • 6个表面技术
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  • 5个稀有金属
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  • 3个中国表面工程
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  • 2个稀有金属材料...
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  • 2个人工晶体学报
  • 2个河北科技大学...
  • 2个固体电子学研...
  • 2个微电子学
  • 1个现代化工
  • 1个教育与职业

地区

  • 9个天津市
  • 4个河北省
  • 1个新疆
共 14 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐继英
供职机构：天津冶金职业技术学院
研究主题：化学机械抛光 磨料 黏度 现场总线 监控画面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张金
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 去除速率 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李洪波
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：磨料 黏度 表面粗糙度 铜 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李炎
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：聚苯胺 防腐涂料 磨料 表面粗糙度 涂料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何彦刚
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 阻挡层 CMP 化学机械抛光 抛光表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
樊世燕
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 磨料 黏度 CMP 数据挖掘
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫辰奇
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高娇娇
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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